Occasion VARIAN / VEECO GEN II #9225851 à vendre en France

VARIAN/VEECO GEN II est un équipement d'épitaxie par faisceau moléculaire qui fournit un moyen fiable de produire des matériaux semi-conducteurs à couches minces de haute qualité. Le système est composé d'une chambre à vide, où la réaction a lieu, et d'une série de composants indépendants, mais interdépendants. La chambre comprend un mandrin de substrat, une source de chauffage laser, un mécanisme d'obturation, une unité de contrôle de gaz, des têtes de dépôt et un dispositif de trempe rapide. A travers le mandrin de substrat, on peut fixer un échantillon de substrat tel qu'une plaquette de silicium, une plaque de verre ou une plaquette d'arséniure de gallium. La source de chauffage laser peut être ajustée à une température désirée jusqu'à 1000 ° C, générant suffisamment de chaleur pour une croissance épitaxiale avancée. Le mécanisme d'obturation permet un contrôle précis du faisceau réactif et travaille en liaison avec la source de chauffage laser, permettant une répartition uniforme de la chaleur sur l'ensemble du substrat. La machine de contrôle de gaz utilise une boîte à gaz séparée, permettant le dépôt à basse pression sous vide. Cela garantit un processus MBE efficace avec une contamination minimale et une rugosité de surface minimale. Les têtes de dépôt peuvent être accordées pour fournir presque n'importe quelle composition souhaitée du film épitaxial. Les couches fabriquées peuvent aller de nanomètres à micromètres, selon les besoins de l'utilisateur. Le dispositif de trempe rapide fonctionne comme un obturateur, arrêtant rapidement et précisément le dépôt du film afin d'éviter les interactions indésirables et d'assurer un dépôt uniforme du film. VEECO GEN II offre un moyen fiable et précis de produire des matériaux semi-conducteurs à couches minces de haute qualité. De plus, cet outil peut produire des couches d'épaisseurs, de compositions et de rugosité de surface différentes nécessaires à une croissance épitaxiale avancée. En bref, VARIAN GEN II est une solution idéale pour les utilisateurs ayant besoin de précision et de fiabilité lors de la production de matériaux semi-conducteurs à couches minces.