Occasion VARIAN / VEECO GEN II #9232278 à vendre en France

VARIAN/VEECO GEN II est un équipement avancé d'épitaxie par faisceau moléculaire (MBE) composé d'une chambre de croissance, d'un évaporateur, d'un système de distribution de gaz et d'une unité de commande. La chambre de croissance est en acier inoxydable, et il a une pression de base de 10-10 Torr. Cette chambre est suffisamment grande pour accueillir jusqu'à 8 substrats et pour le flux de gaz en machine, comme l'oxygène et l'hydrogène. L'évaporateur a plusieurs sources indépendantes et est surveillé en température. Les sources peuvent être chauffées jusqu'à 1200 ° C, et chacune est contrôlée par ses propres régulateurs de température. L'outil de distribution de gaz est conçu pour traiter jusqu'à treize gaz et assure un contrôle manuel automatique des pressions partielles de gaz par l'intermédiaire d'un régulateur proportionnel. L'actif de livraison de gaz est conçu pour assurer une distribution uniforme du gaz. Enfin, l'unité de contrôle expérimentale modèle peut contrôler la vitesse de croissance, le dopage azoté, la linéarité et l'homogénéité des dépôts, l'homogénéité de la couche, et peut surveiller tous les paramètres tels que la vitesse de croissance et les espèces p-dopées. VEECO GEN II est conçu pour une croissance des semi-conducteurs reproductibles de haute qualité sur jusqu'à 8 substrats utilisant la technologie MBE. Il est utilisé pour un large éventail d'applications, du développement de matériaux spéciaux à la fabrication des dispositifs quantiques les plus exigeants. Il est idéal pour le dépôt de matériaux III-V, tels que l'arséniure de gallium (GaAs) et le phosphure d'indium (InP), pour le dépôt de couche de haute qualité. Il est également utilisé pour les couches de dopage et le traitement épitaxial. Son équipement de distribution de gaz est conçu pour avoir une commutation rapide entre 8 gaz, permettant une meilleure flexibilité du procédé, ainsi que des processus de croissance à basse température. Dans l'ensemble, VARIAN GEN II est un système MBE professionnel conçu pour être efficace, fiable et polyvalent. Il fournit les caractéristiques et les spécifications nécessaires pour les processus MBE avancés. Sa large gamme de paramètres de dépôt, ses capacités de contrôle supérieures et sa flexibilité en font un choix idéal pour la recherche MBE avancée et le développement d'applications de semi-conducteurs.