Occasion VARIAN / VEECO GEN II #9232281 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

ID: 9232281
MBE System.
VARIAN/VEECO GEN II est un équipement de pointe d'épitaxie par faisceau moléculaire (MBE) conçu pour une grande précision de dépôt et une faible incorporation d'impuretés gazeuses. Il est capable de déposer des matériaux solides sur différents types de substrat avec une grande précision et une excellente résolution. Ce système est composé de plusieurs composants, tels qu'une unité à vide ultra-élevé, une cellule d'effusion et un évaporateur à faisceau d'électrons, qui travaillent tous ensemble pour créer le film désiré. La machine à vide ultra-haute est composée de plusieurs étages de pompes et de lignes de faisceau, qui sont utilisés pour maintenir le vide à un niveau optimal pour la croissance épitaxiale du faisceau moléculaire. Cet outil est accessible par le panneau de maintenance et est responsable du maintien d'une pression de base de 10-7-10-8 Torr. L'évaporateur électronique est utilisé pour chauffer et évaporer le matériau, essentiellement en « condensant » les molécules sur le substrat de choix. C'est là que des processus de croissance en boucle fermée ou réactifs [peuvent être réalisés. La cellule d'effusion est utilisée pour contrôler le flux de gaz et importer les précurseurs chimiques nécessaires au processus de croissance. Cet actif est également responsable d'un contrôle précis de la distribution du gaz. Il est équipé d'une cellule d'effusion simple ou double canal et peut utiliser jusqu'à deux sources métalliques ou semi-conductrices à la fois. Ceci permet un contrôle précis de la composition, de l'épaisseur de la couche et de la vitesse de dépôt du matériau. VEECO GEN II est également équipé d'un modèle de balayage thermique résistif ultra fin qui assure un contrôle précis de la température sur le substrat. Cet équipement peut fonctionner à des températures allant de 50 K à 1000 K. Enfin, le système est équipé d'une source de résonance cyclotron électronique, ce qui permet un contrôle précis de l'ionisation des atomes à incorporer dans le film. Dans l'ensemble, VARIAN GEN II est une unité de dépôt de matériaux sophistiquée qui peut assurer une croissance précise et à basse température de divers matériaux. Ses caractéristiques le rendent bien adapté à un large éventail d'applications de recherche et développement.
Il n'y a pas encore de critiques