Occasion VARIAN / VEECO GEN II #9235092 à vendre en France

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ID: 9235092
MBE system AS Cracker cell Molly control system Dry scroll pump station K-Space REED screen camera and software RGA CBr4 for carbon As, SUMO Ga, 2 Al, In, CBr, and 2 doping cells (Be/Si)
VARIAN/VEECO GEN II est un équipement avancé d'épitaxie par faisceau moléculaire (MBE) spécialement conçu pour le dépôt de couches minces dans la recherche et la fabrication de matériaux semi-conducteurs. Ce système est une configuration de nombreuses sources de vapeur, des températures variables, et des processus automatisés qui permettent une croissance précise et précise d'un film mince. Il est idéal pour le dépôt de couches minces en couches simples, multiples et/ou en alliage complexe de semi-conducteurs et de superlattices. VEECO GEN II se compose d'une chambre principale alimentée par une pression de base de 1 x 10-10 Torr. À l'intérieur de la chambre principale se trouve un porte-substrat chauffé et un canon à électrons ; le canon à électrons est réglable en hauteur et peut basculer à différents angles et distances. De plus, VARIAN GEN II comprend une unité de traitement des gaz contrôlée par ordinateur avec un certain nombre de sources de gaz indépendantes à pression, débit et température contrôlés. Chaque source contient plusieurs obturateurs pour réguler indépendamment le flux à destination, en provenance et à l'intérieur de la chambre principale. Il est capable de déposer une seule couche, plusieurs couches et des alliages complexes qui nécessitent précision et précision. La conception sophistiquée de la tête de douche permet de contrôler la vitesse de dépôt et d'uniformiser le flux. Son bouclier à la masse protège le substrat des ions et des particules qui peuvent être dispersés à partir des sources de vapeur. De plus, le GEN II est compatible avec une variété d'outils d'analyse de couches minces. La machine offre en outre la flexibilité et la commodité nécessaires pour un large éventail de besoins de recherche. Cela est réalisé grâce à sa conception planaire rétractable, à son outil robuste de manutention des gaz et à la capacité du canon à électrons à basculer et à se déplacer librement dans la chambre principale. Sa conception permet également un processus automatisé, qui permet aux techniciens de déposer des films minces et de les analyser avec le même atout. En conclusion, VARIAN/VEECO GEN II est un modèle idéal pour le dépôt précis de couches minces et l'analyse de couches minces. Ses caractéristiques uniques et sa conception robuste lui permettent d'être utilisé pour une variété d'applications et de processus de recherche. La conception plane rétractable de l'équipement, le contrôle précis de la température et les processus automatisés peuvent fournir un film mince précis pour la fabrication de matériaux semi-conducteurs complexes.
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