Occasion VARIAN / VEECO GEN II #9243569 à vendre en France
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Vendu
ID: 9243569
MBE System
Reactor: Horizontal
Single RHEED gun
Wafer transfer: Manual
Load lock
Monitoring equipment:
Ion gauges
Molly control unit
Gases: GaAs, InGaAs, AlGaAs
Dopants: Si, Be
Vacuum:
LL Cryo pump
LL Ion gauge
LL Degas station
BC IGP
BC Ion gauge
BC Substrate heater
GC IGP
GC Ion gauge
Gate valve Cryo - GC
Gate valve GC - BC
Gate valve BC - LL
Gate valve LL - Cryo2
Transfer rods
Sources:
(7) Shutters (With shutter motor rack)
Beam flux monitor
Electronic rack:
Ion gauge controller GC/BF
Ion gauge controller BC/LL
Controls:
Desktop computer
Communication unit
Removed parts:
All cells crackers
RHEED
RGA
Al / Ga / In / Si / Be Effusion cell
Electronic control units
EUROTHERM Control / Power supply units
CAR
Manipulator.
VARIAN/VEECO GEN II est un équipement d'épitaxie par faisceau moléculaire (MBE) utilisé pour produire des films cristallins monocouche ou multicouche de haute qualité de matériaux semi-conducteurs sur substrats. Il utilise une chambre à ultra-haut vide (UHV) et se compose de composants tels que trois cellules d'effusion, un évaporateur à faisceau électronique, un système d'injection de gaz, un pistolet à pulvérisateur de substrat, une unité de mise en forme de faisceau, un moniteur à cristaux de quartz et une serrure de charge. Les cellules d'effusion sont utilisées pour porter le substrat à la température de croissance requise et le maintenir à une température constante pendant la procédure de croissance. L'évaporateur e-faisceau est utilisé pour évaporer le matériau source et le transporter à la zone désirée sur le substrat. La machine d'injection de gaz est utilisée pour injecter des gaz dans la chambre afin d'influer sur les caractéristiques de croissance du matériau. Le pistolet pulvérisateur substrat est utilisé pour nettoyer le substrat avant sa croissance et est également utilisé pour déposer une mince couche de matériau sur le substrat. L'outil de mise en forme du faisceau est utilisé pour contrôler le profil du faisceau. Le moniteur à cristaux de quartz est utilisé pour mesurer l'épaisseur du film cristallin en cours de dépôt. La serrure de charge est utilisée pour transférer des plaquettes dans et hors de la chambre tout en maintenant l'UHV intact. VEECO GEN II MBE actif est capable de produire des films cristallins de haute qualité, monocouche ou multicouche dans un environnement contrôlé et peut maintenir des pressions aussi faibles que 5 x 10-10mbar. Le modèle est également équipé d'un logiciel convivial qui permet un fonctionnement facile et un contrôle précis des paramètres de croissance tels que la température du substrat, le débit de gaz et les paramètres du faisceau. Le logiciel permet d'automatiser les programmes de croissance pour maximiser l'efficacité et la précision du processus. Dans l'ensemble, les systèmes VARIAN GEN II MBE sont un excellent choix pour la production de films cristallins monocouche ou multicouche de haute qualité destinés à diverses applications électroniques et optoélectroniques. Ses mécanismes de contrôle avancés et ses paramètres de croissance précis garantissent des résultats précis et cohérents. Avec son logiciel convivial et sa capacité de croissance automatisée, il est facile à utiliser et efficace dans la création des résultats souhaités.
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