Occasion VARIAN / VEECO GEN III #9197483 à vendre en France

L'équipement VARIAN/VEECO GEN III d'épitaxie par faisceau moléculaire (MBE) est un outil de recherche de haute précision qui est utilisé pour créer des films minces sur un substrat. Cette technologie est le plus couramment utilisée dans le dépôt de matériaux sur divers substrats tels que le silicium, l'arséniure de gallium et l'oxyde de zinc. Ce système permet de déposer des couches de matériau de quelques nanomètres d'épaisseur seulement, avec une plus grande uniformité et précision que les autres procédés de dépôt. Cela fait de VEECO GEN III une unité idéale pour la création d'appareils ou de composants à petite échelle. La machine se compose de plusieurs composants majeurs, l'évaporateur, l'obturateur, l'obturateur à gaz, le moniteur à cristaux de quartz, le chauffe-résistance, le régulateur de débit massique directionnel et les alimentations. L'évaporateur est utilisé pour retenir et chauffer le matériau à déposer sur le substrat. L'obturateur contrôle le flux de matière au fur et à mesure qu'il passe de l'évaporateur. L'obturateur à gaz est utilisé pour contrôler l'inclusion de gaz tels que l'azote et l'hydrogène dans le matériau lors de son dépôt. Le moniteur à cristaux de quartz fournit une rétroaction sur l'épaisseur et l'uniformité du matériau déposé, tandis que le chauffe-résistance est utilisé pour maintenir l'évaporateur à une température donnée. Le régulateur de débit massique directionnel est utilisé pour régler la pression et la vitesse du matériau, tandis que les alimentations sont utilisées pour fournir la tension et le courant appropriés aux composants de l'outil. VARIAN GEN III est également équipé d'une variété de dispositifs de sécurité, y compris une protection contre la surcharge de l'évaporateur, des pompes à ions pour le confinement chimique et des pompes à filtre pour le confinement des particules. Le modèle est hautement automatisé, avec un logiciel conçu pour le contrôle efficace de tous les composants de l'équipement. Le logiciel a également la capacité de contrôler une variété de composants supplémentaires, y compris le profilage de température et le positionnement du substrat, pour créer des motifs de dépôt complexes. Le système GEN III est considéré comme la technologie de dépôt de pointe en raison de sa précision et de sa précision dans le dépôt de couches de semi-conducteurs et d'autres matériaux. Cette unité est largement utilisée pour la recherche et le développement et a été utilisée dans la création de nombreux produits, y compris des puces semi-conductrices et des composants optiques. Sa capacité de créer des composants à petite échelle et complexes en a fait un outil inestimable dans le développement des technologies de pointe.