Occasion VARIAN / VEECO GEN III #9245294 à vendre en France

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ID: 9245294
MBE System 500V Mark V Arsenic cracker 500V Phosphorus cracker Ion pump for buffer chamber (2) 5cc dopant cells (used for Si and Be) (2) 400g Sump aluminum cells (2) 400g SUMO cells (used for Gallium) (2) 250g DWL Sumo cells (used for Indium) Includes: Set of cryopanels Substrate manipulator CAR (Gen III) Electronics rack Molly interface Boards (For Molly interface).
VARIAN/VEECO GEN III est un équipement très sophistiqué d'épitaxie par faisceau moléculaire (MBE) capable de produire des films nanostructurés complexes avec une composition et des propriétés structurelles extrêmement uniformes. Ceci permet le dépôt de films semi-conducteurs, isolants et métalliques de haute qualité avec une précision sub-atomique. Dotée d'une gamme de fonctionnalités puissantes, VEECO GEN III se distingue sur les marchés de la recherche scientifique et industrielle. La conception polyvalente de VARIAN GEN III permet de contrôler et de manipuler le flux, la composition et la géométrie des films. Le processus de dépôt est réalisé par l'utilisation de deux magnétrons, avec des éléments de coeur composés de cellules de quartz et de nitrure de bore pyrolitique (PyCN) de forme précise. Les magnétrons utilisent une puissante source de plasma à résonance cyclotron électronique (ECR) de 750 watts ; capable de produire un ensemble de métaux, compositions et gaz avec une précision de 1 partie sur 10 000. Le substrat de l'échantillon peut être chauffé par courant continu, radiofréquence ou faisceau d'ions pendant le processus de dépôt. Ceci permet de manipuler et de contrôler le mécanisme de croissance cristalline et de modifier la composition du film. En outre, le système comprend un spectromètre d'émission optique (OES), qui fournit des informations sur les pressions partielles des gaz réactifs, la concentration en dopants et les taux relatifs de dépôt. Le GEN III peut être facilement contrôlé et contrôlé grâce à un terminal informatique tactile intégré. L'unité est conçue autour d'une machine d'exploitation basée sur Windows, permettant une programmation utilisateur avancée et des fonctions de surveillance. Ceci permet une plus grande souplesse et précision lors de dépôts complexes et d'expériences de traitement de matériaux. En outre, l'outil est livré avec un actif d'enregistrement intégré des données, fournissant une documentation approfondie des paramètres expérimentaux et de leurs effets sur les propriétés de l'échantillon. Dans l'ensemble, VARIAN/VEECO GEN III offre une plate-forme idéale pour le dépôt de films et matériaux nanostructurés avancés. Sa combinaison de magnétron, de sources de chaleur et d'OES permet aux utilisateurs de gérer et de manipuler le processus de dépôt avec une précision et une précision sans précédent. Offrant une performance et une fiabilité exceptionnelles, VEECO GEN III est sans aucun doute l'un des systèmes MBE les plus puissants et les plus sophistiqués du marché.
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