Occasion VARIAN / VEECO UHV #9081064 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
ID: 9081064
System
SS Chamber:
O-ring sealed cover & has a 1 ½" viewport
(2) sets of Curvac ports around the circumference
Upper set of ports include four 2 ¾" and three 3-3/8" Curvac flanges
Pumping system:
(2) Ultek sorption roughing pumps including manifold & manual valving
Veeco MI300 Mag Ion pump rated at 300 l/s complete w/ Model CU510 power supply
Mounted on a compact table.
L'épitaxie par faisceau moléculaire (MBE) est un outil utilisé pour la fabrication de matériaux cristallins à l'échelle nanométrique. L'équipement VARIAN/VEECO UHV MBE est conçu pour le dépôt de matériaux complexes en couches minces sur divers substrats, permettant la création d'hétérostructures complexes par croissance moléculaire. En combinant les composants d'une source de faisceau moléculaire classique, tels que des cellules à effusion et des canons à faisceau d'électrons, avec ceux d'un système à haute température, à vide élevé, on obtient des taux de dépôt élevés et une uniformité. Au cœur de l'unité VEECO UHV MBE se trouve la chambre à ultra-haut vide (VARIAN UHV). À l'intérieur se trouve un environnement avec une pression de base inférieure à 10-7 Torr, une plage de température allant jusqu'à 1200 ° C, et la capacité d'accueillir des substrats de dimensions allant jusqu'à 6 "de diamètre. De telles conditions sont essentielles pour travailler avec le dépôt de faisceaux moléculaires. En plus de la chambre UHV, la machine VEECO MBE dispose également d'une suite de sources de faisceau moléculaire, y compris un canon à double canon à électrons, des cellules d'évaporation et des sources de pulvérisation. Le canon à électrons à double canon est conçu pour le dépôt à basse température tandis que les cellules d'évaporation sont utilisées pour la précision à haute température. Les sources de pulvérisation offrent une gamme plus diversifiée de capacités de dépôt. En contrôlant les paramètres des sources, l'outil VARIAN/VEECO UHV MBE est capable de créer une variété presque illimitée de couches minces et/ou d'hétérostructures. Un actif d'alimentation séparée, qui fournit des entrées en courant continu et RF, alimente les sources. Cela permet d'assurer un dépôt précis et précis du matériau. Un autre support du processus est une sélection de composants d'automatisation, tels que des positionneurs, des systèmes automatisés de rotation d'échantillons et des contrôleurs de débit massique. Ces composants permettent à l'utilisateur de sélectionner avec précision les substrats désirés et de garder un contrôle précis sur les paramètres du processus de croissance. Enfin, le modèle VEECO UHV MBE est logé dans une enceinte ergonomique robuste, conçue pour le confort et la sécurité de l'utilisateur. L'équipement dispose également d'une variété de systèmes avancés de surveillance et de sécurité, ce qui en fait un choix idéal pour tout laboratoire qui entreprend des projets d'épitaxie par faisceau moléculaire.
Il n'y a pas encore de critiques