Occasion VEECO GEN II K #293650675 à vendre en France

A VARIAN/VEECO GEN II K Molecular Beam Epitaxy (MBE) Equipment est un système avancé utilisé pour faire pousser des couches minces de matériau de haute pureté sur des substrats afin de produire des structures d'oxydes métalliques, des films hybrides et des nanostructures avec une précision au niveau atomique. L'unité est composée de deux composants distincts : la chambre de procédé et la chambre de croissance, qui contribuent tous deux au dépôt réussi de chaque couche de matériau. La chambre de procédés est utilisée pour préparer des substrats et créer un environnement sous vide pour la croissance des couches minces. Il contient divers composants tels qu'un évaporateur, un réservoir de phosphine et un piège à quartz réfrigéré. L'évaporateur est utilisé pour déposer des impuretés de bas niveau sur le substrat et pour réaliser un vide ultra-élevé. Le réservoir de phosphine est responsable de l'ajout de quantité spécifique de phosphore dans la chambre de croissance et le piège réfrigéré à quartz est utilisé pour purifier davantage la chambre de procédé. La chambre de croissance est le lieu de dépôt des couches minces. Il contient un évaporateur pour les matériaux à haute température tels que les oxydes, un évaporateur de faisceau d'électrons pour ajouter des niveaux plus élevés d'impuretés, une diffraction d'électrons à basse énergie (LEED) pour l'étude de la structure cristalline du film, une source de stabilisation qui sert à maintenir des conditions thermiques et électriques uniformes, et un ensemble de vannes d'arrêt qui servent à contrôler le débit de la source. La machine comprend également un outil de commande informatique avancé qui permet un contrôle précis des paramètres de chaque couche de matériau à cultiver. Cet atout offre également un contrôle manuel des paramètres de la source rotative radio-fréquence et des paramètres de décalage gamma. Enfin, le modèle comprend également divers moniteurs et enregistreurs pour suivre les performances de l'équipement. Dans l'ensemble, VEECO GEN II K Molecular Beam Epitaxy System est une unité de dépôt avancée et fiable capable de produire des couches minces de haute qualité de structures d'oxydes métalliques, de films hybrides et de nanostructures. C'est une machine polyvalente qui peut produire des films purs ultra-haut dans une gamme de tailles et de formes. Il s'agit d'un outil précieux pour la recherche et le développement de matériaux avancés pour des applications technologiques.