Occasion VEECO Gen II #9057008 à vendre en France

VARIAN/VEECO GEN II est un équipement d'épitaxie par faisceau moléculaire (MBE) optimisé pour produire une large gamme de matériaux optoélectroniques et électroniques. Il offre une conception modulaire de pointe qui permet de simples changements de configuration. Il est équipé d'un système de contrôle avancé qui offre un contrôle amélioré des paramètres du processus. Il a la capacité de déposer un large éventail de matériaux, y compris des matériaux semi-conducteurs tels que le nitrure de gallium (GaN), l'arséniure d'indium gallium (InGaAs), l'arséniure de gallium (GaAs) et le phosphure d'indium (InP), ainsi que des métaux tels que l'or et l'aluminium. De plus, l'unité est capable de mettre en oeuvre plusieurs techniques avancées de dépôt de matériaux telles que le dépôt assisté par faisceau d'ions (IBAD), où un faisceau d'ions spécialement conçu est utilisé pour profiler et former le matériau, dépôt contrôlé par adsorption, technique qui garantit que le matériau est déposé uniquement sur les surfaces exposées, et gravure chimique assistée par métal (MACE), une technique innovante qui peut être utilisée pour créer une grande variété de modèles à base de nanostructure. La machine VEECO GEN II est également équipée de plusieurs systèmes de diagnostic avancés qui peuvent être utilisés pour surveiller et évaluer la qualité du matériau déposé. Il s'agit notamment de la réflectométrie in situ et de la microscopie électronique à balayage. L'outil est également intégré à un outil automatisé de surveillance des plaquettes. Cela permet d'analyser les plaquettes en temps réel et de contrôler la qualité, ce qui permet d'optimiser les performances de dépôt des matériaux. Le modèle VARIAN GEN II est également doté de plusieurs dispositifs de sécurité tels que des détecteurs d'arc, des moniteurs de concentration de gaz et de détecteurs et un équipement d'interception de sécurité. Les caractéristiques sont conçues pour maintenir un haut niveau de sécurité tant pour les opérateurs que pour les chercheurs. Le système GEN II est une plate-forme puissante et flexible pour la production de matériaux optoélectroniques et électroniques. Son unité de contrôle avancée assure le maintien des paramètres du procédé pour une performance optimale de dépôt des matériaux. Il a la capacité de déposer un large éventail de matériaux, ce qui le rend adapté à de nombreuses applications différentes. En outre, la machine est équipée de plusieurs systèmes de diagnostic avancés, fournissant une analyse complète de la qualité des dépôts de matériaux, ainsi que de nombreuses caractéristiques de sécurité.