Occasion VEECO Gen II #9080731 à vendre en France
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VARIAN/VEECO GEN II est un équipement à six chambres d'épitaxie par faisceau moléculaire (MBE). Ce système permet la croissance de matériaux à couches minces pour des applications telles que les dispositifs électroniques, les hétérostructures de semi-conducteurs et les structures nanométriques. L'unité est composée de plusieurs composants dont chacun sert un but particulier. Ces composants comprennent un piège à froid, un évaporateur, une chambre de dépôt, un obturateur UHV, une source de plasma He, un poste de pompe à vide, un poste de turbo-pompe, une machine à plasma, ainsi qu'une commande et une interface E/S. L'outil commence par introduire le substrat dans le piège à froid, où se produit un processus de refroidissement. Ceci permet une répartition uniforme de la température sur le substrat. Une fois le substrat à une température prédéfinie, un évaporateur charge le matériau, prêt à être chauffé et évaporé. Après évaporation du matériau, le nouveau matériau est déposé sur la surface du substrat dans la chambre de dépôt. Le gaz est introduit dans la chambre à partir de l'obturateur UHV, après quoi le substrat se réchauffe lentement à nouveau, de sorte que le nouveau matériau peut être déposé sur le substrat. Ceci se fait avec une source de plasma He qui chauffe le substrat et les atomes de matière, qui est alors guidée par le plasma rf et focalisée vers le substrat. Pour une meilleure qualité et reproductibilité du film mince, un vide super élevé est utilisé pour exclure tout gaz ou particules indésirables de pénétrer dans la chambre de dépôt. Inversement, un atout turbo-pompe est utilisé pour évacuer les vapeurs et les matières indésirables de la chambre. Pour contrôler les paramètres du processus de dépôt, tels que la température et le temps, une interface et un contrôle d'entrée/sortie sont utilisés pour envoyer des commandes et des données au modèle. L'équipement peut être exploité et contrôlé par une interface graphique (interface utilisateur) afin d'améliorer la précision et la reproductibilité de la couche mince cultivée. Dans l'ensemble, VEECO GEN II est un excellent système pour MBE qui permet de développer des matériaux à couches minces avec une grande précision, précision et reproductibilité. Avec ses composants et ses capacités avancées, cette unité est idéale pour une variété d'applications en couches minces.
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