Occasion VEECO Gen II #9254261 à vendre en France

L'épitaxie par faisceau moléculaire (MBE) est une technique avancée utilisée pour créer des nanostructures hautement ordonnées et des couches de matériau avec une précision sous-nanométrique. VARIAN/VEECO GEN II est un équipement d'épitaxie par faisceau moléculaire (MBE) conçu pour synthétiser des dispositifs semi-conducteurs complexes et de haute précision. Il offre plusieurs avantages par rapport aux systèmes MBE traditionnels, notamment une plus grande précision et un meilleur contrôle du dépôt des couches, des performances de débit plus élevées et une compatibilité accrue avec les matériaux semi-conducteurs III-V modernes. Le système VEECO GEN II abrite plusieurs composants nécessaires à la fabrication des appareils. Au coeur se trouvent les deux sources de faisceau d'électrons, l'une contrôlée par un analyseur d'énergie de haute précision et l'autre avec un canon à électrons collimaté. Ces flux d'électrons seront utilisés non seulement dans le dépôt de couches, mais aussi dans le nettoyage et la préparation de surface par pulvérisation chimique et élimination d'oxyde natif. Un contrôleur de température robuste maintiendra des températures précises dans l'ensemble de l'unité, ainsi que garder les plaquettes chauffées de façon constante pendant les étapes du processus. La machine est contrôlée et surveillée par ordinateur via une interface conviviale. L'utilisateur peut définir divers paramètres de processus, tels que la vitesse de dépôt, la tension du faisceau et la température. Grâce à ce contrôle, les utilisateurs peuvent facilement produire des couches de matériaux à haute résolution avec une précision sous-nanométrique. Des centaines de processus personnalisables peuvent être sauvegardés et rappelés pour des résultats reproductibles. VARIAN GEN II sert également de plate-forme pour le développement de logiciels et de processus personnalisés. Il dispose de plusieurs langages de programmation dont C++ et MATLAB, créant un environnement favorable aux logiciels et applications personnalisés. Son environnement de développement puissant permet aux utilisateurs de modifier les processus, de créer des macros, de contrôler les séquences temporelles et de créer des méthodes sophistiquées. Dans l'ensemble, le GEN II est un outil extrêmement efficace et polyvalent d'épitaxie par faisceau moléculaire. Utilisé conjointement avec des logiciels développés sur mesure, ses capacités deviennent encore plus impressionnantes. Il permet aux utilisateurs de créer des appareils complexes à l'échelle nanométrique et offre aux utilisateurs une précision et un contrôle sans précédent dans le développement de composants.