Occasion VG SEMICON / OXFORD V100 #293615569 à vendre en France

VG SEMICON/OXFORD V100 est un équipement d'épitaxie par faisceau moléculaire (MBE) principalement utilisé pour le dépôt de couches minces de matériaux semi-conducteurs sur des substrats tels que le silicium ou l'arséniure de gallium. Il utilise un agencement de source à deux étages, avec une source de réactif à haute température sur le dessus et une source à basse température sur le bas. La chambre de croissance est détendue de la chambre principale évacuée, et le dépôt a lieu sous des pressions de ~ 3 × 10 ^ -7 torr, sous vide. Dans ce système, il y a deux lentilles hémisphériques qui focalisent les faisceaux moléculaires sur la surface de l'échantillon, et des bobines de chauffage/refroidissement pour les deux sources réactives et la chambre de croissance. OXFORD V100 est équipé d'un certain nombre d'instruments pour le contrôle des processus, tels qu'une unité de mesure de pression, un microbalance à cristaux de quartz in situ (QCM), une machine de getter d'oxygène, un réflectomètre in situ et un thermomètre à cristaux de quartz. Le QCM in situ est utilisé pour mesurer la vitesse de dépôt massique et la composition des couches minces, tandis que le réflectomètre in situ est utilisé pour surveiller la morphologie de surface. L'outil de getter d'oxygène peut être utilisé pour maintenir une faible concentration en oxygène dans la chambre de croissance afin d'éviter l'oxydation des films semi-conducteurs lors du dépôt. Le thermomètre à cristaux de quartz peut être utilisé pour surveiller à la fois la source de réactif et la température de la chambre. VG SEMICON V100 est principalement utilisé pour la culture de films de matériaux semi-conducteurs tels que le silicium et l'arséniure de gallium par MBE. Ces films sont généralement très minces, typiquement seulement quelques couches atomiques épaisses, et nécessitent un contrôle très précis des paramètres de croissance pour assurer une bonne croissance des films. V100 convient également pour la croissance de films d'autres matériaux tels que l'arséniure de gallium d'aluminium, le nitrure de gallium et l'oxyde d'aluminium. En conclusion, VG SEMICON/OXFORD V100 est un actif MBE sophistiqué qui peut être utilisé pour le dépôt de films ultra-minces de semi-conducteurs et d'autres matériaux. Il est équipé d'une gamme d'instruments pour assurer un contrôle précis des processus, ce qui est nécessaire pour la croissance de films de haute qualité.