Occasion VG SEMICON V80H #293800022 à vendre en France

ID: 293800022
MBE System (6) CF 2.75" Ports (16) CF 4.5" Ports (2) CF 6" Ports (2) CF 8" Ports CF 8" to CF 6" With reducer flange (2) Welded stainless tube stubs.
VG SEMICON V80H est un équipement de pointe d'épitaxie par faisceau moléculaire (MBE) conçu pour la croissance précise de couches minces et le dépôt de couches épitaxiales dans la fabrication avancée de dispositifs semi-conducteurs. Ce système MBE sophistiqué intègre une technologie de pointe et des caractéristiques innovantes pour permettre aux chercheurs et aux fabricants d'obtenir un contrôle supérieur sur la croissance des films cristallins avec une précision de couche atomique. Au cœur de l'unité V80H se trouve sa chambre à vide ultra-haute, qui fournit un environnement vierge pour les processus de croissance épitaxiale. La chambre est équipée de ports multiples pour l'introduction de sources élémentaires, telles que l'arsenic, le phosphore, le gallium et l'indium, ainsi que de matériaux dopants pour des profils de dopage précis. La machine comporte également des cellules d'effusion et des cellules de craquage valvées pour l'évaporation thermique et le craquage de sources élémentaires, respectivement, permettant l'émission contrôlée de faisceaux atomiques à la surface du substrat. L'un des points forts de l'outil VG SEMICON V80H est ses capacités de manutention avancées des plaquettes. L'actif est équipé d'un modèle sophistiqué de transfert de plaquettes qui permet un chargement et un déchargement des substrats en douceur et en efficacité, minimisant la contamination et assurant une croissance de film de haute qualité. Le manipulateur de plaquettes permet également un positionnement précis du substrat lors de la croissance, facilitant un dépôt de film uniforme sur toute la surface de plaquettes. En termes de régulation de température, V80H offre une stabilité thermique exceptionnelle et une uniformité sur toute la surface du substrat. L'équipement dispose de mécanismes de régulation de température multi-zones qui permettent un réglage précis de la température du substrat pendant la croissance, assurant des conditions optimales pour le processus épitaxial. En outre, le système est équipé d'outils de surveillance et de contrôle in situ, tels que la diffraction réfléchissante des électrons à haute énergie (RHEED) et la spectrométrie de masse, pour fournir une rétroaction en temps réel sur le processus de croissance et permettre un contrôle précis des propriétés du film. L'unité VG SEMICON V80H intègre également des caractéristiques de sécurité avancées pour assurer un fonctionnement fiable et sécurisé. La machine est équipée d'emboîtements et de systèmes de surveillance pour protéger contre les conditions de surpression, les pannes de courant et d'autres dangers potentiels. En outre, l'outil comprend des fonctions complètes de contrôle logiciel et d'enregistrement des données, permettant aux utilisateurs de programmer facilement les recettes de croissance, de surveiller les paramètres de processus et d'analyser les résultats de croissance pour l'optimisation des processus et l'assurance de la qualité. Dans l'ensemble, V80H actif MBE représente une plate-forme de pointe pour la croissance épitaxiale et le dépôt de couches minces dans la recherche et la production de semi-conducteurs. Avec sa technologie de pointe, ses contrôles de précision et ses caractéristiques de sécurité robustes, ce modèle est bien adapté à un large éventail d'applications, y compris le développement de nouveaux matériaux semi-conducteurs, dispositifs quantiques et composants électroniques haute performance.
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