Occasion AQUEOUS TECH Zero-ion #293657416 à vendre en France

La technologie aqueuse Zero-ion est un équipement avancé de gravure de plaquettes et de traitement du dopage développé par la société Aqua Technologies Corp, un des principaux fournisseurs de produits pour le traitement des semi-conducteurs. Il utilise une technologie Zero-ion pour graver et doper les plaquettes sans l'utilisation de gaz de gravure et de dopage, ce qui peut produire des plaquettes de haute précision et ultra-haute pureté. Cette technologie est conçue pour fournir des procédés de gravure et de dopage des plaquettes extrêmement précis pour les applications critiques de dispositifs électroniques. Le système ACE Zero-ion est équipé d'une technologie brevetée de dépôt et de gravure qui permet un traitement des plaquettes extrêmement haute résolution et précis. Il dispose d'une large gamme de paramètres de processus qui peuvent facilement être définis et personnalisés pour répondre aux besoins des clients. L'unité est également livrée avec une machine de prélèvement avancée qui garantit la précision et les performances répétables. L'outil offre également une large gamme de fonctions de transfert et d'options telles que électriques, mécaniques et chimiques. Le procédé de gravure des plaquettes utilisant l'actif Zero-ion consiste en un premier pré-nettoyage de la plaquette avec une solution de nettoyage au solvant. Ensuite, un plasma est généré à l'aide d'une source d'un gaz approprié, qui est ensuite utilisé pour éliminer les contaminants de surface. On procède ensuite à une gravure humide réalisée en solution liquide. La plaquette est ensuite chauffée pour éliminer les résidus organiques et effectuer un nettoyage d'interface. Le processus est suivi par la compensation de vacance et l'activation des dopants pour obtenir les propriétés souhaitées sur la plaquette. Le dopage des plaquettes à l'aide du modèle Zero-ion de la TECHNOLOGIE AQUATIQUE est basé sur un procédé de dépôt chimique en phase vapeur suivi d'un procédé de gravure à l'aide d'un gaz approprié. Une réaction chimique est initiée qui fournit un film mince sur la plaquette. On utilise alors un gaz source pour le processus de dopage, et du plasma généré pour doper la plaquette. Une fois le processus de dopage terminé, la structure du film est modifiée pour adapter les propriétés de la plaquette. L'équipement zéro ion assure une grande précision et répétabilité des processus de gravure et de dopage. Il est également réputé pour son excellent système de gestion thermique ainsi que pour sa compatibilité avec divers gaz de process. En outre, l'unité Zero-ion de la technologie AQUA est capable de fournir la qualité désirée dans le plus court laps de temps. Cela le rend adapté à une grande variété d'applications, y compris la fabrication de circuits intégrés.