Occasion HOLOGENIX YIS-200SP #293769606 à vendre en France

HOLOGENIX YIS-200SP Masque et Wafer Inspection Equipment est un système d'imagerie numérique automatisé à haute résolution qui permet l'inspection, l'analyse, la classification et la qualification automatisées des masques et des wafers photolithographiques. L'unité est capable de réaliser un large éventail de fonctions de métrologie, fournissant des images détaillées et globales et des mesures du masque ou de la plaquette. YIS-200SP Masque et Wafer Inspection Machine est conçu pour inspecter, mesurer et inspecter les structures topographiques complexes sur les masques et les wafers plus précisément et plus rapidement que les systèmes optiques conventionnels. Il atteint ce haut niveau de précision grâce à l'utilisation de technologies avancées d'optique et de tête de balayage, permettant un balayage rapide d'une surface de pièce ainsi qu'un positionnement fin de la ligne laser afin de mesurer quantitativement les caractéristiques et les motifs sur la surface. C'est également un outil idéal pour mesurer la planéité, les substrats de pochoirs d'épaisseur et d'autres surfaces topographiques complexes. L'outil est équipé d'une optique de diffraction limitée, permettant une imagerie précise et précise des grandes et petites caractéristiques sur le masque. Cela garantit également que les images capturées sont complètement en bref, sans anomalies de couleur. Il est alimenté par des capacités de balayage laser horizontales et verticales ainsi que par un champ de vision angulaire. Cela permet de construire une carte 3D qui contient des informations décrivant les caractéristiques topographiques variées de la pièce. HOLOGENIX YIS-200SP Mask & Wafer Inspection Asset dispose d'une capacité d'analyse avancée avec des options pour la détection automatisée et la classification des défauts, ainsi que la classification manuelle et la déclaration des erreurs. En outre, en plus de détecter les erreurs et les défauts sur les masques et les plaquettes, le modèle peut également être utilisé pour comparer les masques aux dessins et assurer la bonne fonctionnalité des masques. L'équipement offre la possibilité de transmettre des images au système distant de l'utilisateur à des fins de révision, ou de diffuser des images constamment mises à jour dans un réseau local. Cela garantit que l'utilisateur peut recevoir des images en temps réel pour examen et analyse, quelle que soit la distance physique. En conclusion, YIS-200SP Mask & Wafer Inspection Unit est un outil puissant et polyvalent pour inspecter et qualifier les masques et les plaquettes photolithographiques, grâce à ses capacités d'optique avancée, d'imagerie limitée par diffraction et d'analyse avancée. Il permet une analyse rapide et précise et la détection des défauts et des erreurs, ainsi que la comparaison des masques aux dessins, ce qui en fait un choix idéal pour les applications de masques et de plaquettes.