Occasion KYORITSU SEIKI GV1-20HAT-PF #293663639 à vendre en France

KYORITSU SEIKI GV1-20HAT-PF est un équipement de traitement de plaquettes à haute température utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs. Ce système utilise des technologies avancées de traitement au niveau des plaquettes pour former des motifs d'oxyde rapidement et avec précision sans endommager le matériau sous-jacent. GV1-20HAT-PF utilise des méthodes de dépôt à haute température pour revêtir les plaquettes d'une fine couche de matériaux tels que le dioxyde de silicium ou le silicium polycristallin. Ceci est réalisé dans un four à haute température, où le substrat est chauffé à des températures supérieures à 850 ° C Ceci assure que le film mince va enrober les plaquettes uniformément et créer un motif oxyde qui est cohérent dans tout le substrat. Une fois le motif oxyde formé, KYORITSU SEIKI GV1-20HAT-PF utilise la lithographie optique laser pour projeter des images du motif désiré sur le substrat. Ceci est fait avec une grande précision pour assurer un alignement précis des caractéristiques sur la plaquette. Un autre avantage de GV1-20HAT-PF est son faible budget thermique. Cette unité utilise un procédé à basse température, basé sur le temps court. Ceci minimise l'érosion thermique du matériau sous-jacent, ce qui peut réduire le rendement du produit final. De plus, le faible budget thermique réduit les contraintes sur la plaquette, en conservant son intégrité et ses hautes performances après traitement. KYORITSU SEIKI GV1-20HAT-PF est également très efficace, car il permet des débits de plaquettes jusqu'à 10 plaquettes par cycle. Cela en fait un choix idéal pour une production à haut volume. Enfin, GV1-20HAT-PF est équipé d'une gamme complète de dispositifs de sécurité. Cela comprend un capteur de température qui empêche la machine de surchauffer, et un capteur de pression qui surveille la pression de la chambre pour s'assurer qu'elle ne dépasse pas les limites autorisées. En résumé, KYORITSU SEIKI GV1-20HAT-PF est un outil de traitement des plaquettes à haute température qui utilise des technologies avancées de traitement des plaquettes pour former des motifs d'oxyde rapidement et avec précision sans endommager le matériau sous-jacent. Cet actif offre un faible budget thermique, des débits élevés et des caractéristiques de sécurité complètes, ce qui en fait un choix idéal pour les applications de fabrication de semi-conducteurs.