Occasion SII NANO TECHNOLOGY X-Vision 200TB #293824625 à vendre en France
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ID: 293824625
Style Vintage: 2008
FIB-SEM System
Power Requirement: 200-230V, 50/60HZ
GALLIUM SMI3000 ion source
(3) VARIAN Ion pumps
THERMO ELECTRON ULTRADRY Silicon drift detector, P/N: 8827A-3UUS-SN
MATSUSADA HEOS-828B-SD HV Power supply
BOC EDWARDS STP-iX455 Chamber turbopump
PFEIFFER Loadlock turbopump
IOS Unit, P/N: 1014-5002
RAITH BB-8KV Beam blank controller
Control cabinet
ANELVA PIC-050A-NP Ion pump controller
BOC EDWARDS Pump controller
PFEIFFER DCU Pump controller
Ar control unit, P/N: 1015-5017
FT200 Stage controller, P/N: 1208-5003
PDU, P/N: 1207-5000
1ea 4chMGS II Gas control cabinet
Control console
Maintenance panel
Control PB rack, P/N: 1012-5027
Vacuum power unit, P/N:1208-5001
Stage monitor
SEM Scan module, P/N: 1207-5110
(2) Transformer boxes, P/N: 1208-5000
THERMO SCIENTIFIC NORAN SYSTEM 7 Microanalysis controller, P/N: 470-3597
Spare RAITH Beam blank controller
THERMO ELECTRON C10017 Silicon drift detector controller
JANDEL RM2 4-point test controller
(3) PCs
No HDDs
2008 vintage.
SII NANO TECHNOLOGY X-Vision 200TB est un autre équipement de traitement des plaquettes de pointe conçu pour améliorer considérablement les capacités de traitement des plaquettes dans la fabrication de semi-conducteurs. Ce système de pointe intègre des nanotechnologies de pointe pour atteindre des niveaux de précision, d'efficacité et d'évolutivité inégalés dans le traitement des plaquettes semi-conductrices. Au cœur de l'unité X-Vision 200TB se trouve sa nano-technologie innovante, qui permet l'imagerie ultra haute résolution et la manipulation précise des surfaces des plaquettes à l'échelle du nanomètre. Ce niveau de précision est essentiel pour répondre aux exigences dimensionnelles strictes des dispositifs semi-conducteurs modernes, tels que transistors et cellules mémoire. La machine utilise des technologies d'imagerie avancées, y compris la microscopie électronique et la microscopie à force atomique, pour inspecter et contrôler avec précision les surfaces des plaquettes avec une précision nanométrique. Les caractéristiques clés de l'outil SII NANO TECHNOLOGY X-Vision 200TB comprennent une grande capacité de traitement de 200 téraoctets (TB), ce qui permet de traiter des plaquettes de grand volume pour répondre aux exigences de la production de semi-conducteurs à grande échelle. L'actif est équipé de multiples modules de traitement, chacun capable de manipuler une large gamme de tailles et de matériaux de plaquettes, le rendant hautement polyvalent et adaptable aux différents processus de fabrication. Le modèle X-Vision 200TB offre une gamme complète de capacités de traitement, y compris la gravure de précision, le dépôt, le nettoyage et l'inspection, tous intégrés dans une plate-forme unique pour une efficacité et un débit maximum. Les fonctionnalités d'automatisation avancées de l'équipement permettent une intégration homogène avec les flux de travail de fabrication existants, réduisant le temps de traitement et améliorant les rendements globaux. L'un des principaux avantages du système SII NANO TECHNOLOGY X-Vision 200TB est sa capacité à effectuer un traitement multicouche avec une précision et une uniformité exceptionnelles sur toute la surface de la plaquette. Ce niveau de contrôle est essentiel pour obtenir des performances et une fiabilité optimales dans les applications semi-conductrices avancées. De plus, l'unité X-Vision 200TB intègre des algorithmes avancés de surveillance et de contrôle des processus afin d'assurer des résultats cohérents et reproductibles sur plusieurs opérations de traitement. Les mécanismes de rétroaction en temps réel surveillent en permanence les paramètres de traitement et effectuent les ajustements nécessaires pour optimiser les performances et le rendement du processus. La machine est également conçue en tenant compte de l'évolutivité, ce qui permet d'intégrer facilement des modules de traitement supplémentaires pour répondre à l'évolution des exigences de fabrication. Cette flexibilité permet aux fabricants de semi-conducteurs d'étendre leurs capacités de traitement sans perturber significativement les lignes de production existantes. En conclusion, SII NANO TECHNOLOGY X-Vision 200TB représente un progrès significatif dans d'autres technologies de traitement des plaquettes, offrant une précision, une efficacité et une évolutivité inégalées pour les applications de fabrication de semi-conducteurs. Avec sa nano-technologie innovante, sa capacité de traitement élevée et ses capacités de traitement complètes, l'outil X-Vision 200TB est prêt à révolutionner le traitement des plaquettes dans l'industrie des semi-conducteurs et à stimuler le développement de dispositifs semi-conducteurs de nouvelle génération.
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