Occasion ADVANCED VACUUM SYSTEM DPS-2 #9078812 à vendre en France

ADVANCED VACUUM Equipment DPS-2 est un système avancé de gravure et de dépôt de plasma multifonctionnel. Il est utilisé pour la gravure et le dépôt de couches minces sur des substrats dans un environnement à vide élevé. L'unité dispose d'une construction basée sur la station, utilisant deux chambres indépendantes pour permettre le double fonctionnement. Le modèle standard comprend une source de plasma inductivement couplée, un antichambre sous vide, une pompe à vide turbo-moléculaire avec une vanne doseuse au xénon, un mécanisme d'entraînement flexible et une chambre de procédé librement configurable. L'antichambre sous vide abrite deux grandes portes, une source d'évaporation et une microbalance en cristal de quartz. La pompe turbomoléculaire permet un fonctionnement sous vide élevé, tandis que la vanne de dosage du gaz permet aux utilisateurs de contrôler avec précision les charges gazeuses. Le mécanisme d'entraînement permet un positionnement robuste et à faible vibration et la conception modulaire garantit que la machine est facilement évolutive et évolutive. Le cœur central de l'outil est la source de plasma à couplage inductif (ICP), qui est utilisée pour générer une flamme de type flamme pour graver ou enduire les substrats. Le PIC est conçu pour assurer un dépôt plasma très uniforme, avec une excellente répétabilité pour une qualité de film constante. L'ICP a une large gamme de niveaux de puissance, réglable de 1 à 3 kW, ce qui le rend adapté à une variété d'applications. Il est monté sur un cadre robuste avec une entrée et une sortie de gaz très réglables, permettant aux utilisateurs de contrôler avec précision les variables de processus. La chambre de procédé est scellée par trois joints sous vide. Il est équipé d'une fenêtre en quartz de 50 mm, d'une vanne à vide et d'un dispositif de chauffage intégré. La fenêtre à quartz offre un accès visuel à la chambre de procédé, tandis que la vanne de grille maintient la pression interne de la chambre de procédé. Le chauffage intégré fournit l'énergie thermique nécessaire pour les processus de revêtement et de gravure. DPS-2 est conçu pour être utilisé dans un large éventail d'applications. Il est adapté aux applications sous vide ultra-élevé, ainsi qu'aux procédés de production à haut débit et de qualité industrielle. Il est capable de produire un film mince de haute qualité avec une excellente couverture uniforme et répétable. L'actif est compatible avec une gamme de substrats tels que les plaquettes, les céramiques, les plastiques et d'autres matériaux. Il est également capable de cycles de gravure multiples avec des résultats cohérents. Dans l'ensemble, ADVANCED VACUUM Model DPS-2 est un puissant équipement polyvalent de gravure/dépôt de plasma, adapté à un large éventail d'applications. Il fournit une excellente uniformité et répétabilité, et est prouvé pour être fiable et efficace. Avec sa conception robuste et sa facilité d'évolutivité, le système est le choix idéal pour les processus industriels de niveau de production.