Occasion HUETTINGER TruPlasma RF 1003 #293642785 à vendre en France

HUETTINGER TruPlasma RF 1003 est une alimentation haute performance spécialement conçue pour les applications industrielles du plasma. Cette alimentation est capable de fournir une grande variété de processus plasma, permettant à l'utilisateur de sélectionner et d'ajuster les réglages les plus adaptés à leurs besoins spécifiques. Le RF 1003 est une solution fiable et économique pour des applications allant de la gravure plasma basse pression et gravure dans des tranchées profondes à la gravure haute pression pour la fonctionnalisation des surfaces. Avec ses trois sorties indépendantes, chacune avec un courant maximal de 4000 A et une tension maximale de 50 V, le TruPlasma RF 1003 est idéal pour des processus plasmatiques exigeants. Les trois sorties peuvent être synchronisées sur le terrain ou en usine pour optimiser les résultats avec des réglages d'angle de phase parfaits. La conception d'inductance ultra-basse du RF 1003, ainsi que sa densité de courant de sortie élevée, le rend adapté à la gravure plasma à grande vitesse. HUETTINGER TruPlasma RF 1003 est équipé d'une interface à écran tactile haute résolution pour le contrôle et la surveillance de l'alimentation. Pour un réglage précis du processus, l'utilisateur peut choisir entre les paramètres prédéfinis ou les régler manuellement. L'utilisateur a également la possibilité de stocker jusqu'à 500 paramètres comme favoris, permettant un accès facile à des paramètres de processus optimisés. En outre, le RF 1003 dispose d'un système de surveillance étendu qui surveille l'état en temps réel de l'alimentation électrique. Ceci comprend des informations sur la tension d'entrée, le courant, la fréquence, la température, la tension de sortie et le courant, et d'autres paramètres. Avec sa suralimentation et sa protection contre les intempéries, le RF 1003 assure un fonctionnement sûr et fiable. Grâce à son design robuste et facile à utiliser, le TruPlasma RF 1003 est un choix idéal pour les applications industrielles de traitement du plasma. Avec ses capacités de haute performance et son système de suivi complet, il permet aux utilisateurs de sélectionner et d'ajuster les paramètres exacts dont ils ont besoin pour obtenir des résultats optimaux.