RF PLASMA PRODUCTS (Alimentation électrique) d'occasion à vendre

RF PLASMA PRODUCTS est un fabricant leader d'alimentation pour diverses applications de plasma RF. Leurs alimentations sont connues pour leur haute performance, fiabilité et flexibilité, les rendant adaptées à une large gamme d'applications industrielles et scientifiques. Une de leurs alimentations populaires est le AMNPS-2A, qui est une alimentation analogique conçue pour des applications nécessitant des niveaux de puissance faibles. Il offre un contrôle précis de la tension et de la puissance de sortie, permettant un réglage précis des paramètres du plasma. Le AMNPS-2A est également doté d'un design compact et d'une grande efficacité, ce qui le rend adapté aux environnements encombrés. Une autre alimentation notable de RF PLASMA PRODUCTS est le RF-50, qui est une alimentation numérique polyvalente adaptée aux applications de haute puissance. Il offre des algorithmes de contrôle avancés et des capacités de surveillance en temps réel, assurant une génération de plasma stable et efficace. Le RF-50 offre également de multiples dispositifs de protection pour éviter les dommages à la fois à l'alimentation électrique et au système plasma. Les avantages des alimentations RF PLASMA PRODUCTS comprennent une construction robuste, un rendement élevé de conversion de puissance et des fonctions de contrôle avancées. Ils sont conçus pour fournir une puissance RF stable et fiable, assurant une production de plasma cohérente. En outre, leurs alimentations sont compatibles avec une large gamme de systèmes à plasma et offrent une flexibilité en termes de réglage du niveau de puissance. Les alimentations RF PLASMA PRODUCTS ont été utilisées avec succès dans diverses industries, y compris la fabrication de semi-conducteurs, le traitement de surface, le dépôt de couches minces et la gravure par plasma. Leur réputation de production d'alimentation électrique de haute qualité en a fait un choix de confiance pour les clients à la recherche de solutions fiables et efficaces pour les processus plasma RF.