Occasion SEMICS Opus II #9284014 à vendre en France
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ID: 9284014
Style Vintage: 2005
Prober
Platform: 93K
OCR type: SEMICS OCR
Chuck model: Opus chuck / 100kg / 27°C - 130°C
Tray module: Tray
Clean unit dimension: 8" x 4"
Docking type: HP93K pogo 9.5"
Docking kit: HP93K pogo combo 12" / 9.5"
APC Function
PMI function: MPMI
Card holder: HP93K 9.5" (SUS) APC
2005 vintage.
SEMICS Opus II est un outil de métrologie haut de gamme, flexible et très précis. Il est conçu pour des opérations avancées de sondes et de mesures dans l'industrie des semi-conducteurs. L'outil se compose de deux composants principaux : un scanner réel entièrement automatisé, multi-capteurs et un équipement logiciel convivial. Le module logiciel est une plate-forme embarquée basée sur Windows qui est reliée au scanner réel, effectuant la capture et le contrôle des données en temps réel. La suite d'applications est équipée d'une grande variété d'options de configuration, telles que le fonctionnement multi-voies avec reprogrammation d'appareil en temps réel, la recherche différée, ainsi que la vérification logique. Son interface conviviale permet une configuration rapide et facile et une gestion efficace des données. Le scanner actuel est un système semi-automatisé semi-mobile qui est construit avec une plate-forme de positionnement à 3 axes avec unité d'entraînement à 5 axes. La plate-forme permet un balayage automatique d'une surface prédéfinie, tout en permettant le réglage et l'étalonnage manuel de pièces ou d'emplacements spécifiques sur les objets testés. Les caméras CCD haute résolution et l'imagerie source de rayons X aident à naviguer et à analyser tous les ensembles de données acquis à partir de chaque position. La machine peut mesurer non seulement la taille et la planéité des surfaces des plaquettes semi-conductrices, mais aussi capturer les valeurs de métrologie et de recouvrement de chacune des différentes couches. Les différentes fonctions de mesure fournies par Opus II sont supportées par plusieurs métriques et outils haut de gamme, tels que : Auto-Lane Measurement, Noise Analyzer, Partial Overlay Monitoring et Probe Based Defect Measurement. Tous ces outils de métrologie aident l'outil à mesurer et à analyser ses résultats avec précision et précision. SEMICS Opus II est l'un des systèmes de métrologie les plus avancés, polyvalents et précis disponibles pour l'industrie des semi-conducteurs. C'est un outil clé utilisé pour tester et développer des produits semi-conducteurs de nouvelle génération, et pour créer des circuits intégrés sécurisés. Avec sa technologie haut de gamme et ses fonctionnalités de métrologie complètes, Opus II permet de réduire considérablement les coûts de fabrication et d'améliorer la vitesse de production.
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