Occasion SEMICS Opus II #9383805 à vendre en France

Fabricant
SEMICS
Modèle
Opus II
ID: 9383805
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2006
Wafer prober, 12" Tempareture: Ambient/Hot 2006 vintage.
SEMICS Opus II est un équipement automatisé de production et de métrologie de plaquettes qui fournit une foule de capacités pour le test et la caractérisation des semi-conducteurs. Utilisant les dernières avancées de la robotique et de l'automatisation, ce système fournit une solution entièrement automatisée pour les besoins de tests de production en grand volume. L'unité Opus II fournit une gamme complète de capacités de test et de caractérisation pour une variété de dispositifs semi-conducteurs, y compris flash, DRAM, ASIC, MCU et EPROMs. La Machine se compose de trois composants principaux : une unité de robotique, une unité de manutention automatisée et une station de mesure. L'unité de robotique déplace les plaquettes vers et depuis le poste d'analyse. Il gère également le transfert de la plaquette depuis l'outil de hachage sous vide, le positionnement aléatoire de la plaquette pour l'alignement, et le déplacement de la plaquette vers et depuis la station de métrologie. L'unité de manutention automatisée est responsable du flux continu de plaquettes dans tout l'actif et est équipée d'un modèle de détection de défaut. Cette fonctionnalité est essentielle pour les systèmes automatisés afin d'identifier les défauts liés aux plaquettes qui peuvent survenir pendant le processus de production. Enfin, la station de métrologie se compose de deux outils : un scatteromètre laser qui est utilisé pour acquérir des données de topologie de surface, et un microscope électronique à balayage qui est utilisé pour cartographier la surface structurée des plaquettes. SEMICS Opus II est conçu pour s'intégrer dans une variété de lignes de production existantes, avec une large gamme d'options d'intégration et une multitude de fonctions de contrôle avancées. Cela inclut l'utilisation de techniques avancées de manutention de plaquettes pilotées par ordinateur qui permettent un bon fonctionnement et une faible génération de particules. Ces méthodes contrôlées par ordinateur peuvent être personnalisées pour répondre à une variété de critères en fonction des besoins spécifiques de l'utilisateur. La station de métrologie dispose d'une plate-forme logicielle spécifique aux semi-conducteurs qui offre une gamme de capacités de mesure et d'analyse. Pour les grandes séries de production, la grande précision et la répétabilité de cet équipement permettent des économies importantes grâce à l'amélioration de la répétabilité et du débit des tests. De plus, l'Opus II peut détecter des changements subtils dans les plaquettes au fil du temps, en veillant à ce que les rendements restent élevés et en rejetant les plaquettes qui ne répondent pas aux normes de qualité. Le système répond également à toutes les normes de sécurité spécifiques, fournissant un environnement de travail fiable et sûr pour ses utilisateurs. Dans l'ensemble, SEMICS Opus II est une unité d'essai et de métrologie tout-en-un qui simplifie le processus de production en fournissant une solution rentable et efficace pour l'essai et la caractérisation des dispositifs semi-conducteurs.
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