Occasion SEMICS Opus3 #9220173 à vendre en France

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Fabricant
SEMICS
Modèle
Opus3
ID: 9220173
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2017
Prober, 12" Linear stage system Cassette map with sensor Motorized 3 leg VNC Support 5 Fixed tray Specification: Thickness: 300 µm - 2000 µm Die size: 350 µm - 100,000 µm Prober card handling: Shape: 350Φ/480Φ/520Φ Thickness: Maximum 50 mm Prober unit: Position accuracy: X/Y: ± 1.0 µm, Z: ± 1 µm Contact accuracy: X/Y: ± 1.0 µm, Z: ± 1 µm X/Y Probing area: X: ± 175 mm Y: ± 185 mm Maximum speed: 500 mm/s Z Axis: Z Stroke: 40 mm Contact setting range: 1-10 mm Drive method: AC Servo motor Accuracy: ± 1 µm Maximum speed: 50 mm/s Rigidity for needle force: 300 kg Θ Axis: Rotation stroke: ± 5.0° Drive method: Stepping motor Control resolution: 0.0001° Chuck top: Planarity: ≤ 10 µm at Ambient Temperature range: Ambient ~ 150°C Alignment method: Image pattern matching Optic auto-focus Loader rotation axis: Maximum rotation speed: 270°C /sec Drive method: Stepping motor Control resolution: 0.006° Pre-aligmnent unit: Maximum rotation speed: 360°/sec Accuracy: X,Y ± 100 µm Control resolution: 0.036° (R=150 mm, 95 µm) Computer: CPU: I5 Dual core 2400 3.0 GHz HDD: 500 GB Memory: 3 GB System disk: USB Monitor: Touch screen, 15" OS: Window XP 2017 vintage.
SEMICS Opus3 est un outil multi-paramétrique d'optimisation des processus largement utilisé dans toutes les industries pour la surveillance et le contrôle des processus. C'est un outil polyvalent, adapté aux opérations à grande et à petite échelle. SEMICS OPUS 3 est capable d'effectuer des analyses statistiques et prédictives pour mieux comprendre les processus de fabrication et identifier les domaines potentiels d'amélioration. Il fonctionne en surveillant et en recueillant des données brutes de processus et des informations post-processus qui sont utilisées pour analyser les tendances, découvrir les causes profondes de la variation et améliorer les paramètres de processus. Opus3 utilise des algorithmes avancés de surveillance des processus pour analyser les causes profondes et identifier les paramètres de processus qui pourraient entraîner des améliorations de la qualité des produits ou de la cohérence des processus. Le logiciel permet aux utilisateurs de modifier en profondeur les processus et de surveiller leur effet sur le rendement des processus, la qualité des produits et la cohérence des processus. En outre, OPUS 3 fournit des capacités de maintenance préventive et de planification de la production qui peuvent aider à optimiser les temps de cycle de production et réduire les temps d'arrêt. En outre, le logiciel offre des outils statistiques tels que des graphiques de base de contrôle des processus statistiques (RCP), des analyses paramétriques, des études de capacités et des modèles de prédiction qui facilitent l'optimisation des processus. SEMICS Opus3 fournit également de puissants outils de visualisation et de rapport de données en temps réel pour permettre aux utilisateurs de visualiser rapidement les performances des processus et les domaines potentiels d'amélioration. Ces outils permettent aux utilisateurs d'identifier, de vérifier et d'analyser des tendances complexes, de détecter des anomalies dans la performance des processus et de créer des rapports détaillant les changements dans l'historique de l'optimisation des processus. Le logiciel comprend également des fonctions d'interface matérielle et logicielle de conditionnement du signal d'entrée/sortie, de conversion du signal et de contrôle pour une gestion efficace des processus. Cela permet aux utilisateurs de contrôler et de surveiller des opérations complexes d'équipement à l'aide d'une interface graphique intuitive (interface graphique utilisateur). En outre, le logiciel prend en charge divers protocoles de communication pour faciliter la collecte de données sécurisées et la collaboration entre machines. Dans l'ensemble, SEMICS OPUS 3 est un outil d'optimisation de processus puissant et polyvalent avec une gamme de fonctionnalités avancées. Il fournit de puissants outils d'analyse en temps réel pour aider à identifier et à améliorer les paramètres du processus, ainsi que de puissantes fonctions de surveillance et de contrôle pour minimiser les temps d'arrêt et optimiser les temps de cycle de production. En outre, sa large gamme de protocoles d'interfaçage et de communication rend le logiciel adapté à un large éventail d'industries.
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