Occasion AG ASSOCIATES Heatpulse 4108 #9146377 à vendre en France
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ID: 9146377
Taille de la plaquette: 5"-8"
Rapid thermal processor annealing system, 5"-8"
Includes:
Process chamber: Two high-intensity tungsten halogen lamp arrays
STD Bus for real-time operation
Quartz isolation tube
Robot / Robot controller
Gas control electronics
ULPA Filtration system
Graphic user interface (GUI) computer system
Electronics
Mass-flow-controlled gas handling
Cooling
Mechanical assemblies
Applications:
Silicon dielectric growth
Implant annealing
Glass re-flow
Silicide formation and annealing
Nitridation of metals
Contact alloying
Oxygen donor annihilation
Wafer handling: Automatic serial processing
Standard cassettes
Throughput: Process dependent
Ramp-up rate:
Programmable
Range: 1 – 180°C Per second
Steady-state duration: 1 – 600 Seconds per step
Ramp-down rate:
Programmable
Temperature
Radiation dependent
Range: 1 – 180°C Per second
Maximum: 150°C per second
Recommended steady-state temperature range: 400 – 1200°C
ERP Temperature accuracy: +5°C to -9°C
Calibrated against an instrumented thermocouple wafer (ITC)
Temperature repeatability: + 7°C
Temperature uniformity: + 10°C.
AG ASSOCIATES Heatpulse 4108 est un processeur thermique rapide (RTP) avec une flexibilité inégalée. Le système utilise une technique couche par couche, ce qui le rend utile pour de nombreuses applications, y compris le prototypage rapide, le traitement thermique rapide (RTP), le recuit thermique rapide (RTA), l'ALD rapide (dépôt de couche atomique), le CVD rapide (dépôt chimique en phase vapeur) et le dépôt de diamants. Heatpulse 4108 est conçu avec une uniformité précise et contient la construction d'uniformité thermique et des outils logiciels qui permettent un traitement thermique très précis de jusqu'à 4 couches en fonctionnement simultané. La conception sophistiquée de la chambre de processus avec une plaque de refroidissement avancée assure l'uniformité tout en maintenant une excellente stabilité thermique. L'élément chauffant peut être réglé pour tenir compte d'une plage de températures comprise entre RDT (température ambiante) et 1100 ˚C. Le système permet également de contrôler précisément le temps de traitement, de 0,1 seconde à 999 minutes (ou plus avec une option d'exécution prolongée). AG ASSOCIATES Heatpulse 4108 offre également le plus haut degré d'uniformité et de débit élevé. Le logiciel breveté de correction d'uniformité permet un réglage constant de l'épaisseur de la couche lors de multiples opérations sans avoir à ajuster l'équipement. La chambre de procédé est également équipée d'un cornet RF pour empêcher la formation de hotspot lors du traitement de petits échantillons. De plus, les agrafes pneumatiques automatisées permettent un fonctionnement sûr et efficace du système. Heatpulse 4108 peut être équipé d'une variété de composants supplémentaires, y compris une sous-coupe, un nettoyant UV-ozone, entrée de gaz en vrac, et plus. Ceux-ci permettent des procédés spécialisés, tels que le CMP, le recuit diélectrique profond non oxydant, et plus encore. AG ASSOCIATES Heatpulse 4108 peut également être configuré avec une chambre de refroidissement à azote liquide et une chambre d'effet avec purge à gaz d'azote pour une meilleure répétabilité du procédé. Dans l'ensemble, Heatpulse 4108 est un processeur thermique rapide avancé et hautement personnalisable qui convient à une grande variété d'applications industrielles, académiques et de recherche. Sa conception sophistiquée, sa configuration flexible et son excellente stabilité thermique en font l'un des RTP les plus polyvalents disponibles sur le marché.
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