Occasion ALLWIN21 AW 1008 #9201817 à vendre en France

ALLWIN21 AW 1008 est un processeur thermique rapide conçu pour un traitement thermoélectrique rapide, précis et fiable des substrats jusqu'à 8 pouces de taille. Cet équipement est adapté pour transformer le silicium cristallin en une variété de produits tels que des dispositifs de puissance, des circuits intégrés (IC) et des transistors à couches minces (TFT). Il peut également être utilisé pour l'élimination de dopants, la croissance d'oxydes de grille extrêmement minces, la passivation de diélectriques inter-niveaux, la planarisation et le nettoyage de substrats pour des applications ultérieures. Le processeur thermique rapide AW 1008 dispose d'un faible budget thermique de 0,5 milliWatt-Seconds pour une plus grande fidélité au processus. Il offre également un contrôle précis de la température et une réponse thermique rapide avec sa fonction de programmation de température rapide (RTP). RTP permet au processeur d'ajuster les températures aux consignes hebdomadaires avec une vitesse, une précision et une répétabilité élevées. Le système utilise une chambre de réponse chauffée et un mandrin chauffé pour une répartition uniforme de la température et un transfert de chaleur efficace vers le substrat. L'unité dispose également d'un thermocouple dédié qui utilise une thermopile isolée avancée pour surveiller et contrôler la température du substrat en temps réel. La plage de température de la machine peut être réglée de -270 ° C à 1100 ° C, et la précision de température est de +/- 1 ° C ALLWIN21 Le processeur thermique rapide AW 1008 comprend également d'autres fonctionnalités de commodité telles que le contrôle automatique du débit de gaz et la capacité de gravure de plasma. De plus, une mémoire de recette unique en option vous permet de stocker jusqu'à 10 recettes de processus prédéfinies pour une récupération facile. Le processeur est également équipé d'une console de commande tactile qui permet aux utilisateurs de surveiller et d'ajuster les paramètres du processus. Ce processeur est idéal pour un large éventail d'applications de traitement thermique telles que le recuit d'oxyde, la gravure d'oxyde de grille, l'oxydation de grille, les procédés thermiques assistés par plasma, le dopage, la passivation, le nettoyage de zone active et le dépôt diélectrique inter-niveaux. Il est compatible avec les plaquettes et substrats standards de 200mm tels que le silicium, le germanium de silicium et le nitrure de gallium. Dans l'ensemble, AW 1008 est un processeur thermique rapide fiable et efficace conçu pour fournir un excellent contrôle de la température, des temps de réponse rapides et une précision de processus améliorée pour un large éventail d'applications.