Occasion ALLWIN21 AW 2001R #9201803 à vendre en France
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ID: 9201803
Taille de la plaquette: 2"-6"
Plasma etcher, 2"-6"
Wafer loading: 3-Axis robot
Plasma power: Microwave
Type: Parallel / Single wafer process
Stand alone
Gas lines: (4) Lines
Applications:
BPSG Etcher
LTO Etcher
TEOS Etcher
Thermal oxide etcher
LPCVD Nitride etcher
PECVD Nitride etcher
Trench rounding
Descum
RIE Damage removal
Sodium removal
Planarization
Backside etcher: Poly, nitride, oxide
Nitride pattern removal:
PBL, LOCOS With pad oxide: >400Å
Low temp photoresist ashing over: Oxides, Poly, Al, W, Ti
Main frame with breakers, relays and wires
Pentium class PC
Keyboard
Mouse
USS
SW Backup and cables
Fixed cassette stations:
(2) Cassette stations
One cassette station / One centering / Alignment station
Door assembly
Metal shower head
Extended alumina plasma tube for better uniformity
Orifice, gas cap
Chamber body and top plate
Main control, distributor PCB and DC
H1-7 x 10.5 Integrated (3) Axis solid robot
Water cooled MAGNETRON and wave guide
Water cooled 1000W MAGNETRON / Wave guide with an AGL
Microwave power generator: 2.45GHz
(4) Isolated gas lines
With pneumatic valves and MFC
AC Box
Main & slow vacuum valves
MKS Baratron
Throttle valve
Front EMO
Interlocks
Touch screen GUI, 15"
Options:
GEM / SECS II Function
Light tower
Vacuum pump
Chuck temperature: 60-110ºC (±2 ºC)
Gases: NF3, CF4, HE, O2
Uniformity:
100 mm: ± 3% (5% 3 σ)
150 mm: ± 5% (8% 3 σ)
Maximum - minimum / 2 x average
Reproducibility (w-t-w): 10% 3 σ
Particulate: 0.05p / cm2 > 0.3µm
Vacuum chamber pump: 165 cfm
Cabinet exhaust: >250 cfm
Plumbed gases:
CF4
O2
He
NF3
Electrical requirements: 208 VAC, 3 Phase, 6 Hz, 30 Amps.
ALLWIN21 AW 2001R est un processeur thermique rapide qui utilise sa conception brevetée unique pour effectuer un traitement thermique rapide pour une grande variété d'applications. Ce processeur est idéal pour le conditionnement au niveau des plaquettes ainsi que pour la fabrication de dispositifs MEMS et semi-conducteurs composés. AW 2001R dispose d'une zone thermique linéaire double face parallèle unique dans laquelle les utilisateurs peuvent surveiller et contrôler le réglage de la température pour chaque zone. Cette caractéristique assure un chauffage uniforme sur la surface de la plaquette. L'équipement breveté de contrôle et de surveillance contrôle et surveille en permanence la température et la vitesse de chaque zone thermique de façon indépendante, contrôlant automatiquement le bain thermique le plus proche de la plaquette pour compenser tout échauffement inégal de la plaquette. ALLWIN21 AW 2001R utilise un puissant système de chauffage laser à cinq zones de 5 kW pour assurer un contrôle thermique précis. L'unité de contrôle de puissance avancée est conçue pour répondre rapidement aux changements dans la recette de processus ou les conditions thermiques. Le 2000R est disponible avec une lampe à halogénure métallique de 3 kW pour les applications de recuit et de diffusion. AW 2001R offre également une machine à flux de gaz programmable qui permet un contrôle précis de l'environnement en dehors de la zone thermique. Les deux ports d'entrée de gaz contrôlables peuvent être utilisés soit pour des mélanges de gaz tels que l'oxygène et l'azote, soit pour la purge azote/argon lors des opérations de refroidissement. Cela offre de la flexibilité pour effectuer différents processus avec le même équipement. ALLWIN21 AW 2001R est construit avec une construction robuste et est équipé d'un outil de sécurité pour le bon fonctionnement. Cet atout permet d'assurer un fonctionnement sûr et fiable de l'équipement. Avec ces fonctionnalités, AW 2001R fournit aux utilisateurs un modèle de traitement thermique fiable et facile à utiliser pour une grande variété d'applications dans l'industrie des semi-conducteurs.
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