Occasion ALLWIN21 AW 2001R #9201803 à vendre en France

ALLWIN21 AW 2001R
ID: 9201803
Taille de la plaquette: 2"-6"
Plasma etcher, 2"-6" Wafer loading: 3-Axis robot Plasma power: Microwave Type: Parallel / Single wafer process Stand alone Gas lines: (4) Lines Applications: BPSG Etcher LTO Etcher TEOS Etcher Thermal oxide etcher LPCVD Nitride etcher PECVD Nitride etcher Trench rounding Descum RIE Damage removal Sodium removal Planarization Backside etcher: Poly, nitride, oxide Nitride pattern removal: PBL, LOCOS With pad oxide: >400Å Low temp photoresist ashing over: Oxides, Poly, Al, W, Ti Main frame with breakers, relays and wires Pentium class PC Keyboard Mouse USS SW Backup and cables Fixed cassette stations: (2) Cassette stations One cassette station / One centering / Alignment station Door assembly Metal shower head Extended alumina plasma tube for better uniformity Orifice, gas cap Chamber body and top plate Main control, distributor PCB and DC H1-7 x 10.5 Integrated (3) Axis solid robot Water cooled MAGNETRON and wave guide Water cooled 1000W MAGNETRON / Wave guide with an AGL Microwave power generator: 2.45GHz (4) Isolated gas lines With pneumatic valves and MFC AC Box Main & slow vacuum valves MKS Baratron Throttle valve Front EMO Interlocks Touch screen GUI, 15" Options: GEM / SECS II Function Light tower Vacuum pump Chuck temperature: 60-110ºC (±2 ºC) Gases: NF3, CF4, HE, O2 Uniformity: 100 mm: ± 3% (5% 3 σ) 150 mm: ± 5% (8% 3 σ) Maximum - minimum / 2 x average Reproducibility (w-t-w): 10% 3 σ Particulate: 0.05p / cm2 > 0.3µm Vacuum chamber pump: 165 cfm Cabinet exhaust: >250 cfm Plumbed gases: CF4 O2 He NF3 Electrical requirements: 208 VAC, 3 Phase, 6 Hz, 30 Amps.
ALLWIN21 AW 2001R est un processeur thermique rapide qui utilise sa conception brevetée unique pour effectuer un traitement thermique rapide pour une grande variété d'applications. Ce processeur est idéal pour le conditionnement au niveau des plaquettes ainsi que pour la fabrication de dispositifs MEMS et semi-conducteurs composés. AW 2001R dispose d'une zone thermique linéaire double face parallèle unique dans laquelle les utilisateurs peuvent surveiller et contrôler le réglage de la température pour chaque zone. Cette caractéristique assure un chauffage uniforme sur la surface de la plaquette. L'équipement breveté de contrôle et de surveillance contrôle et surveille en permanence la température et la vitesse de chaque zone thermique de façon indépendante, contrôlant automatiquement le bain thermique le plus proche de la plaquette pour compenser tout échauffement inégal de la plaquette. ALLWIN21 AW 2001R utilise un puissant système de chauffage laser à cinq zones de 5 kW pour assurer un contrôle thermique précis. L'unité de contrôle de puissance avancée est conçue pour répondre rapidement aux changements dans la recette de processus ou les conditions thermiques. Le 2000R est disponible avec une lampe à halogénure métallique de 3 kW pour les applications de recuit et de diffusion. AW 2001R offre également une machine à flux de gaz programmable qui permet un contrôle précis de l'environnement en dehors de la zone thermique. Les deux ports d'entrée de gaz contrôlables peuvent être utilisés soit pour des mélanges de gaz tels que l'oxygène et l'azote, soit pour la purge azote/argon lors des opérations de refroidissement. Cela offre de la flexibilité pour effectuer différents processus avec le même équipement. ALLWIN21 AW 2001R est construit avec une construction robuste et est équipé d'un outil de sécurité pour le bon fonctionnement. Cet atout permet d'assurer un fonctionnement sûr et fiable de l'équipement. Avec ces fonctionnalités, AW 2001R fournit aux utilisateurs un modèle de traitement thermique fiable et facile à utiliser pour une grande variété d'applications dans l'industrie des semi-conducteurs.
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