Occasion ALLWIN21 AW 903e #9201808 à vendre en France
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ID: 9201808
Taille de la plaquette: 3"-6"
Plasma etcher, 3"-6"
Wafer loading: 3-Axis robot
Stationary cassette plate
Plasma power: RF 13.56 MHz
Type: Parallel / Single wafer process
Stand alone
Gas lines: 1-3 Lines
Throughput: 30-60 WPH, Process dependent
Temperature: 6-65ºC (±2 ºC) Capability
Gas Lines: (4) Gas lines with MFCs
Etcher rate:
AW-901eR: 0-8000A / minute
AW-903eR: 0-4000A / minute
Process dependent
Uniformity: Up to ±3%, Process dependent
Particulate: <0.05 / cm2
Selectivity:
901eR: 2-20:1
AW-903eR: 2-20:1
Process dependent
MTBF / MTTA / MTTR: 450 Hours / 100 Hours / 3.5 Hours
Options:
EOP Module with PCB
GEM/SECS II Function
Lamp tower alarm with buzzer
Throttle valve pressure control
Vacuum pump
Chiller for chuck and chamber
Through the wall
Main frame, standard
Pentium class PC with
Keyboard
Mouse
USB
SW Backup
Cables
Chuck:3"-6"
Wafer aligner / Cooling station
3-Axis integrated solid robot:
H-Zero (Standard)
H1-7 x 10.5 (TTW)
Fixed cassette station:
Chuck assembly
901eR Non-anodized
903eR Anodized with flat
903eR Anodized with flat
903eR Non-anodized with flat
Reactor Assembly:
901eR Non-anodized
903eR Anodized
903eR Non-anodized
903eR High performance
Direct cooling
Non direct cooling
Pins:
Quartz
Ceramic SST
Centering ring:
Aluminum
Ceramic
Main control board:
Gas box with (4) inline gas lines, MFC, filters, and pneumatic valves
RF Matching network with PCB
RF Generator: 13.56 MHz
MKS Elite: 300 HD
MKS Elite: 600 HD
MKS Elite: 1000 HD
ENI ACG 3
ENI ACG 10
AC / DC Box
ATM Sensor
UPC Pressure control
225 SCCM: 901eR
2000 SCCM: 903eR
MKS Baratron with peumatic Iiolation valve
Main vacuum valves
Front EMO interlocks
Touch screen GU, 15"
AW-901eR AW-903eR
Material Etched Polysilicon / Nitride Oxide,SOG,Nitride
Main etchant gases SG6, O2 / SF6,O2 CHF3,SF6,He
Other gases CHCLF2 / None None
Pressure (mTorr) 200-450 / 250-350 1600-3000
RF Power (Watts) 100-250 / 200-300 400-600
Temperature (C) 30 / 30 23
AC Power:
AC Module: 200-240 VAC Selectable, 50/60 Hz, 3-wire single-phase
Temperature controller: 200-240 VAC, 50/60 Hz, 3-wire single-phase
Vacuum pump: 208-230 / 460 VAC, 60 Hz or 200-220 / 380 VAC, 50Hz, 3 Phase
RF Generator: 200-240 VAC
PC / Monitor: 115 VAC
Cabinet exhaust: 100 cfm.
ALLWIN21 AW 903e Rapid Thermal Processor (RTP) est un appareil semi-conducteur d'essai et d'emballage très avancé. Il est capable de vitesses extrêmement élevées et offre une efficacité supérieure par rapport aux autres systèmes de traitement thermique. AW 903e est un système de traitement thermique multi-étages qui comprend un four avec un régulateur de température avancé, un module de gestion de la température de la filière LED (DTM), et un capteur de pression pour une discrimination précise des oxydes de surface. Le four RTP est conçu pour générer une température uniforme à l'intérieur de la chambre de traitement afin d'assurer des résultats précis. Il peut être programmé pour atteindre des températures élevées rapidement et peut réduire les temps de cycle jusqu'à 90 %. La machine de régulation de température avancée permet de régler la température exacte du four via un panneau tactile. Ce contrôle avancé de la température garantit des performances constantes. Le module de gestion de la température de la filière LED assure que chaque filière à l'intérieur de la plaquette est chauffée à la température désirée. Cela garantit l'uniformité des résultats obtenus. Il améliore également le débit en réduisant le temps d'attente entre les plaquettes. Le capteur de pression est utilisé pour détecter les oxydes de surface qui peuvent affecter la précision des résultats. En détectant ces oxydes de surface, ALLWIN21 AW 903e peut éliminer leur formation. Cela garantit que l'exactitude des résultats n'est pas affectée. L'AW 903e a également été conçu avec souplesse. Il peut intégrer des modules supplémentaires tels que Wafer Heating Tool et Wafer Mapping Asset pour plus de précision. Il est entièrement automatisé et a été conçu avec la sécurité et la maintenance en tête, ce qui en fait un appareil très efficace. ALLWIN21 AW 903e est un RTP très avancé et a été conçu pour fournir le plus haut niveau de précision et de débit lors du traitement des plaquettes. Sa température uniforme et sa DTM avancée garantissent des performances uniformes, et sa capacité à intégrer d'autres modules pour une précision et une efficacité supplémentaires le rendent idéal pour de nombreuses applications. Il est efficace, sûr à entretenir et à exploiter, et est facilement intégré aux systèmes existants.
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