Occasion ALLWIN21 AW 903e #9201808 à vendre en France

ALLWIN21 AW 903e
ID: 9201808
Taille de la plaquette: 3"-6"
Plasma etcher, 3"-6" Wafer loading: 3-Axis robot Stationary cassette plate Plasma power: RF 13.56 MHz Type: Parallel / Single wafer process Stand alone Gas lines: 1-3 Lines Throughput: 30-60 WPH, Process dependent Temperature: 6-65ºC (±2 ºC) Capability Gas Lines: (4) Gas lines with MFCs Etcher rate: AW-901eR: 0-8000A / minute AW-903eR: 0-4000A / minute Process dependent Uniformity: Up to ±3%, Process dependent Particulate: <0.05 / cm2 Selectivity: 901eR: 2-20:1 AW-903eR: 2-20:1 Process dependent MTBF / MTTA / MTTR: 450 Hours / 100 Hours / 3.5 Hours Options: EOP Module with PCB GEM/SECS II Function Lamp tower alarm with buzzer Throttle valve pressure control Vacuum pump Chiller for chuck and chamber Through the wall Main frame, standard Pentium class PC with Keyboard Mouse USB SW Backup Cables Chuck:3"-6" Wafer aligner / Cooling station 3-Axis integrated solid robot: H-Zero (Standard) H1-7 x 10.5 (TTW) Fixed cassette station: Chuck assembly 901eR Non-anodized 903eR Anodized with flat 903eR Anodized with flat 903eR Non-anodized with flat Reactor Assembly: 901eR Non-anodized 903eR Anodized 903eR Non-anodized 903eR High performance Direct cooling Non direct cooling Pins: Quartz Ceramic SST Centering ring: Aluminum Ceramic Main control board: Gas box with (4) inline gas lines, MFC, filters, and pneumatic valves RF Matching network with PCB RF Generator: 13.56 MHz MKS Elite: 300 HD MKS Elite: 600 HD MKS Elite: 1000 HD ENI ACG 3 ENI ACG 10 AC / DC Box ATM Sensor UPC Pressure control 225 SCCM: 901eR 2000 SCCM: 903eR MKS Baratron with peumatic Iiolation valve Main vacuum valves Front EMO interlocks Touch screen GU, 15" AW-901eR AW-903eR Material Etched Polysilicon / Nitride Oxide,SOG,Nitride Main etchant gases SG6, O2 / SF6,O2 CHF3,SF6,He Other gases CHCLF2 / None None Pressure (mTorr) 200-450 / 250-350 1600-3000 RF Power (Watts) 100-250 / 200-300 400-600 Temperature (C) 30 / 30 23 AC Power: AC Module: 200-240 VAC Selectable, 50/60 Hz, 3-wire single-phase Temperature controller: 200-240 VAC, 50/60 Hz, 3-wire single-phase Vacuum pump: 208-230 / 460 VAC, 60 Hz or 200-220 / 380 VAC, 50Hz, 3 Phase RF Generator: 200-240 VAC PC / Monitor: 115 VAC Cabinet exhaust: 100 cfm.
ALLWIN21 AW 903e Rapid Thermal Processor (RTP) est un appareil semi-conducteur d'essai et d'emballage très avancé. Il est capable de vitesses extrêmement élevées et offre une efficacité supérieure par rapport aux autres systèmes de traitement thermique. AW 903e est un système de traitement thermique multi-étages qui comprend un four avec un régulateur de température avancé, un module de gestion de la température de la filière LED (DTM), et un capteur de pression pour une discrimination précise des oxydes de surface. Le four RTP est conçu pour générer une température uniforme à l'intérieur de la chambre de traitement afin d'assurer des résultats précis. Il peut être programmé pour atteindre des températures élevées rapidement et peut réduire les temps de cycle jusqu'à 90 %. La machine de régulation de température avancée permet de régler la température exacte du four via un panneau tactile. Ce contrôle avancé de la température garantit des performances constantes. Le module de gestion de la température de la filière LED assure que chaque filière à l'intérieur de la plaquette est chauffée à la température désirée. Cela garantit l'uniformité des résultats obtenus. Il améliore également le débit en réduisant le temps d'attente entre les plaquettes. Le capteur de pression est utilisé pour détecter les oxydes de surface qui peuvent affecter la précision des résultats. En détectant ces oxydes de surface, ALLWIN21 AW 903e peut éliminer leur formation. Cela garantit que l'exactitude des résultats n'est pas affectée. L'AW 903e a également été conçu avec souplesse. Il peut intégrer des modules supplémentaires tels que Wafer Heating Tool et Wafer Mapping Asset pour plus de précision. Il est entièrement automatisé et a été conçu avec la sécurité et la maintenance en tête, ce qui en fait un appareil très efficace. ALLWIN21 AW 903e est un RTP très avancé et a été conçu pour fournir le plus haut niveau de précision et de débit lors du traitement des plaquettes. Sa température uniforme et sa DTM avancée garantissent des performances uniformes, et sa capacité à intégrer d'autres modules pour une précision et une efficacité supplémentaires le rendent idéal pour de nombreuses applications. Il est efficace, sûr à entretenir et à exploiter, et est facilement intégré aux systèmes existants.
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