Occasion ALLWIN21 AW 903e #9201821 à vendre en France
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ID: 9201821
Taille de la plaquette: 3"-6"
TTW Plasma etcher, 3"-6"
Wafer loading: 3-Axis robot
Stationary cassette plate
Plasma power: RF 13.56 MHz
Type: Parallel / Single wafer process
Through the wall (TTW)
Gas lines: 1-3 Lines
Throughput: 30-60 WPH, Process dependent
Temperature: 6-65ºC (±2 ºC) Capability
Gas lines: (4) Gas lines with MFCs
Etcher rate:
AW-901eR: 0-8000A / minute
AW-903eR: 0-4000A / minute
Process dependent
Uniformity: Up to ±3%, Process dependent
Particulate: <0.05 / cm2
Selectivity:
901eR: 2-20:1
AW-903eR: 2-20:1
Process dependent
MTBF / MTTA / MTTR: 450 Hours / 100 Hours / 3.5 Hours
Options:
EOP Module with PCB
GEM/SECS II Function
Lamp tower alarm with buzzer
Throttle valve pressure control
Vacuum pump
Chiller for chuck and chamber
Through the wall
Main frame, standard
Pentium class PC with
Keyboard
Mouse
USB
SW Backup
Cables
Chuck:3"-6"
Wafer aligner / Cooling station
3-Axis integrated solid robot:
H-Zero (Standard)
H1-7 x 10.5 (TTW)
Fixed cassette station:
Chuck assembly
901eR Non-anodized
903eR Anodized with flat
903eR Anodized with flat
903eR Non-anodized with flat
Reactor Assembly:
901eR Non-anodized
903eR Anodized
903eR Non-anodized
903eR High performance
Direct cooling
Non direct cooling
Pins:
Quartz
Ceramic SST
Centering ring:
Aluminum
Ceramic
Main control board:
Gas box with (4) inline gas lines, MFC, filters, and pneumatic valves
RF Matching network with PCB
RF Generator: 13.56 MHz
MKS Elite: 300 HD
MKS Elite: 600 HD
MKS Elite: 1000 HD
ENI ACG 3
ENI ACG 10
AC / DC Box
ATM Sensor
UPC Pressure control
225 SCCM: 901eR
2000 SCCM: 903eR
MKS Baratron with peumatic Iiolation valve
Main vacuum valves
Front EMO interlocks
Touch screen GU, 15"
AW-901eR AW-903eR
Material Etched Polysilicon / Nitride Oxide,SOG,Nitride
Main etchant gases SG6, O2 / SF6,O2 CHF3,SF6,He
Other gases CHCLF2 / None None
Pressure (mTorr) 200-450 / 250-350 1600-3000
RF Power (Watts) 100-250 / 200-300 400-600
Temperature (C) 30 / 30 23
AC Power:
AC Module: 200-240 VAC Selectable, 50/60 Hz, 3-wire single-phase
Temperature controller: 200-240 VAC, 50/60 Hz, 3-wire single-phase
Vacuum pump: 208-230 / 460 VAC, 60 Hz or 200-220 / 380 VAC, 50Hz, 3 Phase
RF Generator: 200-240 VAC
PC / Monitor: 115 VAC
Cabinet exhaust: 100 cfm.
ALLWIN21 AW 903e est un processeur thermique rapide haute performance (RTP) conçu pour l'industrie des semi-conducteurs. Il est idéal pour le traitement par rampe/descente en température des plaquettes et des substrats, ainsi que pour les implantateurs laser ou ionique. AW 903e offre un contrôle thermique précis à des températures allant jusqu'à 900 ° C et des vitesses de rampe rapides (100 ° C/s à 800 ° C/s). ALLWIN21 AW 903e utilise un appareil de refroidissement à double paroi avec une grande masse thermique permettant un contrôle précis de la température du substrat. Il dispose d'un contrôle de la température de la zone de haute précision (HARZ) qui permet des effets thermiques précis sur le substrat en fonction du temps passé dans la HARZ. L'AW 903e est également équipé d'un système de nettoyage entièrement automatisé, conçu pour minimiser les temps d'arrêt lors du nettoyage de la chambre entre les lots. La chambre peut être nettoyée avec du H2O2, de l'azote sec ou tout autre liquide de nettoyage approprié ; le nettoyage peut également être effectué manuellement. ALLWIN21 AW 903e est logé dans une armoire en acier inoxydable, avec une interface facile à utiliser et une console contrôlée par ordinateur pour fournir un contrôle complet du processus. La console permet de paramétrer les paramètres, de personnaliser les profils thermiques et de définir la séquence de processus. En outre, AW 903e permet un fonctionnement à distance, fournissant une méthode pratique, sécurisée et fiable pour contrôler l'unité. Pour des raisons de sécurité, ALLWIN21 AW 903e possède plusieurs caractéristiques de sécurité avancées telles qu'une purge de gaz inerte, un interrupteur d'arrêt d'urgence, une soupape de pression pour une dépressurisation rapide et un interrupteur de dépassement de température. D'autres caractéristiques comprennent une chambre avec plusieurs fenêtres optiques pour permettre l'inspection visuelle du processus, et un interrupteur de réinitialisation automatique pour remettre la pression et la température de la chambre à des niveaux de fonctionnement normaux. AW 903e est un processeur thermique rapide (RTP) idéal pour le traitement des semi-conducteurs. Il offre un contrôle thermique précis, des vitesses de rampe rapides et une machine de nettoyage de chambre entièrement automatisée, ce qui en fait un choix idéal pour le traitement des plaquettes et des substrats. Les fonctions de sécurité avancées assurent la tranquillité d'esprit lors de l'utilisation du processeur, et la console permet de personnaliser facilement les profils thermiques et les séquences de processus.
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