Occasion ALLWIN21 AW 903e #9201821 à vendre en France

ALLWIN21 AW 903e
ID: 9201821
Taille de la plaquette: 3"-6"
TTW Plasma etcher, 3"-6" Wafer loading: 3-Axis robot Stationary cassette plate Plasma power: RF 13.56 MHz Type: Parallel / Single wafer process Through the wall (TTW) Gas lines: 1-3 Lines Throughput: 30-60 WPH, Process dependent Temperature: 6-65ºC (±2 ºC) Capability Gas lines: (4) Gas lines with MFCs Etcher rate: AW-901eR: 0-8000A / minute AW-903eR: 0-4000A / minute Process dependent Uniformity: Up to ±3%, Process dependent Particulate: <0.05 / cm2 Selectivity: 901eR: 2-20:1 AW-903eR: 2-20:1 Process dependent MTBF / MTTA / MTTR: 450 Hours / 100 Hours / 3.5 Hours Options: EOP Module with PCB GEM/SECS II Function Lamp tower alarm with buzzer Throttle valve pressure control Vacuum pump Chiller for chuck and chamber Through the wall Main frame, standard Pentium class PC with Keyboard Mouse USB SW Backup Cables Chuck:3"-6" Wafer aligner / Cooling station 3-Axis integrated solid robot: H-Zero (Standard) H1-7 x 10.5 (TTW) Fixed cassette station: Chuck assembly 901eR Non-anodized 903eR Anodized with flat 903eR Anodized with flat 903eR Non-anodized with flat Reactor Assembly: 901eR Non-anodized 903eR Anodized 903eR Non-anodized 903eR High performance Direct cooling Non direct cooling Pins: Quartz Ceramic SST Centering ring: Aluminum Ceramic Main control board: Gas box with (4) inline gas lines, MFC, filters, and pneumatic valves RF Matching network with PCB RF Generator: 13.56 MHz MKS Elite: 300 HD MKS Elite: 600 HD MKS Elite: 1000 HD ENI ACG 3 ENI ACG 10 AC / DC Box ATM Sensor UPC Pressure control 225 SCCM: 901eR 2000 SCCM: 903eR MKS Baratron with peumatic Iiolation valve Main vacuum valves Front EMO interlocks Touch screen GU, 15" AW-901eR AW-903eR Material Etched Polysilicon / Nitride Oxide,SOG,Nitride Main etchant gases SG6, O2 / SF6,O2 CHF3,SF6,He Other gases CHCLF2 / None None Pressure (mTorr) 200-450 / 250-350 1600-3000 RF Power (Watts) 100-250 / 200-300 400-600 Temperature (C) 30 / 30 23 AC Power: AC Module: 200-240 VAC Selectable, 50/60 Hz, 3-wire single-phase Temperature controller: 200-240 VAC, 50/60 Hz, 3-wire single-phase Vacuum pump: 208-230 / 460 VAC, 60 Hz or 200-220 / 380 VAC, 50Hz, 3 Phase RF Generator: 200-240 VAC PC / Monitor: 115 VAC Cabinet exhaust: 100 cfm.
ALLWIN21 AW 903e est un processeur thermique rapide haute performance (RTP) conçu pour l'industrie des semi-conducteurs. Il est idéal pour le traitement par rampe/descente en température des plaquettes et des substrats, ainsi que pour les implantateurs laser ou ionique. AW 903e offre un contrôle thermique précis à des températures allant jusqu'à 900 ° C et des vitesses de rampe rapides (100 ° C/s à 800 ° C/s). ALLWIN21 AW 903e utilise un appareil de refroidissement à double paroi avec une grande masse thermique permettant un contrôle précis de la température du substrat. Il dispose d'un contrôle de la température de la zone de haute précision (HARZ) qui permet des effets thermiques précis sur le substrat en fonction du temps passé dans la HARZ. L'AW 903e est également équipé d'un système de nettoyage entièrement automatisé, conçu pour minimiser les temps d'arrêt lors du nettoyage de la chambre entre les lots. La chambre peut être nettoyée avec du H2O2, de l'azote sec ou tout autre liquide de nettoyage approprié ; le nettoyage peut également être effectué manuellement. ALLWIN21 AW 903e est logé dans une armoire en acier inoxydable, avec une interface facile à utiliser et une console contrôlée par ordinateur pour fournir un contrôle complet du processus. La console permet de paramétrer les paramètres, de personnaliser les profils thermiques et de définir la séquence de processus. En outre, AW 903e permet un fonctionnement à distance, fournissant une méthode pratique, sécurisée et fiable pour contrôler l'unité. Pour des raisons de sécurité, ALLWIN21 AW 903e possède plusieurs caractéristiques de sécurité avancées telles qu'une purge de gaz inerte, un interrupteur d'arrêt d'urgence, une soupape de pression pour une dépressurisation rapide et un interrupteur de dépassement de température. D'autres caractéristiques comprennent une chambre avec plusieurs fenêtres optiques pour permettre l'inspection visuelle du processus, et un interrupteur de réinitialisation automatique pour remettre la pression et la température de la chambre à des niveaux de fonctionnement normaux. AW 903e est un processeur thermique rapide (RTP) idéal pour le traitement des semi-conducteurs. Il offre un contrôle thermique précis, des vitesses de rampe rapides et une machine de nettoyage de chambre entièrement automatisée, ce qui en fait un choix idéal pour le traitement des plaquettes et des substrats. Les fonctions de sécurité avancées assurent la tranquillité d'esprit lors de l'utilisation du processeur, et la console permet de personnaliser facilement les profils thermiques et les séquences de processus.
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