Occasion ALLWIN21 AW B3000 #9201806 à vendre en France

ALLWIN21 AW B3000
ID: 9201806
Taille de la plaquette: 8"
Plasma asher / Descum equipment, 8" Production-proven plasma stripper Consistent wafer-to-wafer uniformity Main body with wires Control box Keyboard, mouse Transformer, circuit breaker, contactor Cables EMO, interlocks and watchdog function Quartz chamber: Diameter 12” x depth 23” Main control: PCB and DC Main body of tools: RF Match network integrated Chamber door with quartz plate Gas and vacuum lines connections Options: End-of-process (EOP) Throttle valve for pressure control Air-cooled RF generator Thermocouple: Chamber temperature Vacuum pump Lamp tower alarm with buzzer Main vacuum valve MKS Baratron Throttle valve Touch screen GUI, 15" High throughput: Up to 75 WPH Gas Lines: Up to 5 isolated gas lines with MFCs Asher rate: 0-0.1u/min Positive PR: >0.2u/min Negative PR Uniformity: Up to 25% Particulate: <0.05 /cm2 Selectivity: >1000:1 MTBF / MTTA / MTTR: 450 Hours / 100 Hours / 3.5 Hours Plasma power: Air-cooled RF 13.56MHz TC Option: N2 Plasma: Up to 170°C Types: Barrel / Batch Desktop Stand alone Wafer loading: Manual.
ALLWIN21 AW B3000 est un processeur thermique rapide conçu pour la plus haute qualité de précision et de précision. Il utilise une technologie de pointe pour fournir un transfert thermique rapide du processus au produit et fournit un contrôle supérieur de la température, du temps et de l'atmosphère pour le contrôle du processus. L'équipement dispose d'un contrôle thermique rapide à haute température avancée, fournissant un contrôle thermique précis pendant le traitement. AW B3000 supporte des températures de processus allant jusqu'à 2 700 ° C et un environnement sonore faible pour le contrôle de précision. Il dispose également d'une conception de protection élevée avec une chambre de trempe à haute température pour les transferts rapides. Le processeur intègre une conception de chambre à tube ouvert, permettant une plus grande flexibilité et un meilleur contrôle de l'atmosphère lors du traitement. ALLWIN21 AW B3000 est équipé d'un système de chauffage direct, permettant même le chauffage dans toute la chambre de traitement. Il assure également une répartition uniforme de la température à différents niveaux de la chambre. Le contrôle exact et la répétabilité des températures sont facilités par une unité sophistiquée de surveillance et de contrôle de la température. Il permet une précision de contrôle thermique de +/- 1 ° C et une précision de contrôle du temps de 0,001 seconde. Pour assurer l'uniformité de la température et des temps de réaction rapides, la machine de contrôle de la température est améliorée avec un outil d'obturation d'exposition. Cet atout permet également à l'utilisateur de contrôler avec précision le temps d'exposition et le nombre d'expositions de chaque étape de traitement. Le modèle comprend également des élévateurs de plaquettes personnalisables pour le chargement et le déchargement rapides des plaquettes et des substrats. Il existe également un équipement automatisé avancé d'identification des plaquettes, qui permet un chargement et une identification précis des plaquettes. En outre, le système est équipé de l'enregistrement automatisé des données et des rapports pour l'analyse et la rétroaction en temps réel. AW B3000 est un processeur thermique rapide puissant et précis. Il offre une précision, une précision et une rapidité de traitement supérieures, avec des capacités avancées de contrôle et de déclaration de la température et des systèmes de levage et de suspension personnalisables pour faciliter le chargement et le déchargement des plaquettes et des substrats.
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