Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Vantage Radiance #293586616 à vendre en France
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ID: 293586616
Rapid Thermal Processing (RTP) system, 12"
Process: RadOx
(2) Chambers
Wafer type: SNNF
Platform type: Vantage 3.X
Position A and B: (V352) RadOx2
Chamber A and B process: Toxic RP
OHT WIP Delivery
Dual 2-slot active cool down station
E99 Docked reading capability
Load port: SELOP 7
Load port operator interface: Standard (8) lights
Configurable colored lights
Top air intake system
Upper E84 interface enabled OHT
Upper E84 PIO sensors and cables
E99 Carrier ID: TIRIS With RF
Operator access switch
4-Color configurable light towers
Interface A option
Out the back connection type: RP
Out the back connection H2
(2) Water cooling chambers
RP Integration hardware: Chamber A and B
Standard RAGB rear light tower
Vantage skin: (2) Toxic chambers
IPUP Transfer pump
Open loop tuner
MFC type: STEC
Core anneal and RTO
Monitor 1: Flat panel with keyboard on stand, 17"
Monitor 2: Flat panel on stand, 17"
Monitor 1 & 2 cables: 25 ft with 16 feet effective
No RTP Abatement Unit
SEMI F47
Semi S2 compliance
RTP Chamber type: Radiance RadOx 2, 12"
Technology option: Open loop tuner
MFC Type: STEC
Core anneal and RTO
Rotation type: WRLD Toxic
Low flow O2: 5 SLM
High flow O2: 50 SLM
Oxygen analyzer
H2:
High flow
Low flow
Side inject
No process N2 for flammable MNFLD
Gas pallet type: TOXIC RP Common gas pallet
No MWBC improvement kit
Chamber integration lines: RadOx2
RP Pump cable: 81 Feet
Base ring: RadOx2 base ring
Line 1 / N2 (N/O), 50 SLM
Line 2 / O2, 50 SLM
Line 3 / O2, 5 SLM
Line 6 / H2, 15 SLM - side inject high flow
Line 7 / H2, 22 SLM - high flow
Line 8 / H2, 2 SLM - low flow
Line 10 / N2 (P/P), 30 SLM Restrictor
Line 11 / He, 30 SLM
Line 12 / N2 (BP), 50 SLM
Line 13 / N2 (Maglev), 100 SLM
Docking station FST install kit
Does not include Hard Disk Drive (HDD)
2013 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Vantage Radiance est un processeur thermique rapide (RTP) utilisé pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il produit des cycles de chauffage et de refroidissement rapides qui sont critiques pour la production commerciale de dispositifs de niveau de plaquette. Le RTP est un système de recuit thermique rapide monobloc qui comprend un grand tube à quartz, un réseau de lampes infrarouges et une optique associée, et une plate-forme réglable pour contrôler l'uniformité du chauffage des lampes de la couche semi-conductrice. Il a une plage de température de processus efficace de 0 ° C à 900 ° C, un temps de processus de 5-60 secondes, et une uniformité de +/-1 ° C sur la surface de la plaquette. AMAT Vantage Radiance utilise un contrôle informatique sophistiqué et une chambre à vide à paroi chaude pour garantir la précision de la température et l'intégrité environnementale. Ses lampes infrarouges offrent une grande intensité et une irradiation spatiale et temporelle uniforme, permettant une excellente uniformité au niveau des plaquettes. Sa conception sous vide à paroi chaude garantit un environnement propre et exempt de contaminants, éliminant le besoin d'atmosphère d'azote ou d'hélium pendant le traitement, offrant ainsi un faible coût de propriété et une grande efficacité. Le RTP est conçu pour fournir des résultats de recuit rapides et répétables avec une répartition uniforme de la température, une excellente homogénéité au niveau des plaquettes et une large gamme de températures de processus. Il est doté d'une technologie avancée de chambre propre, qui offre une meilleure fidélité des processus, répétabilité et performance pour l'optimisation des processus à grande vitesse - y compris une correspondance spectrale de haute précision pour l'optimisation des processus. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Vantage Radiance est également équipé d'un large éventail de systèmes de diagnostic et de contrôle, fournissant des données en temps réel sur la température, le temps de processus et la consommation d'énergie. Il comprend des fonctionnalités telles que le chargement automatisé des échantillons et l'échange de plaquettes, le calendrier des processus et du cycle thermique, et la vérification des processus. De plus, un système de diagnostic unique fournit une rétroaction de processus et peut être consulté à distance de façon sécurisée pour superviser la performance du système et ajuster les paramètres de processus à distance. Vantage Radiance est un RTP compact et robuste conçu pour la production fiable de dispositifs semi-conducteurs de haute performance. Son faible coût de propriété, sa grande précision et sa facilité d'automatisation en font un outil idéal pour la production de dispositifs semi-conducteurs.
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