Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Vantage Radiance #293586616 à vendre en France

ID: 293586616
Rapid Thermal Processing (RTP) system, 12" Process: RadOx (2) Chambers Wafer type: SNNF Platform type: Vantage 3.X Position A and B: (V352) RadOx2 Chamber A and B process: Toxic RP OHT WIP Delivery Dual 2-slot active cool down station E99 Docked reading capability Load port: SELOP 7 Load port operator interface: Standard (8) lights Configurable colored lights Top air intake system Upper E84 interface enabled OHT Upper E84 PIO sensors and cables E99 Carrier ID: TIRIS With RF Operator access switch 4-Color configurable light towers Interface A option Out the back connection type: RP Out the back connection H2 (2) Water cooling chambers RP Integration hardware: Chamber A and B Standard RAGB rear light tower Vantage skin: (2) Toxic chambers IPUP Transfer pump Open loop tuner MFC type: STEC Core anneal and RTO Monitor 1: Flat panel with keyboard on stand, 17" Monitor 2: Flat panel on stand, 17" Monitor 1 & 2 cables: 25 ft with 16 feet effective No RTP Abatement Unit SEMI F47 Semi S2 compliance RTP Chamber type: Radiance RadOx 2, 12" Technology option: Open loop tuner MFC Type: STEC Core anneal and RTO Rotation type: WRLD Toxic Low flow O2: 5 SLM High flow O2: 50 SLM Oxygen analyzer H2: High flow Low flow Side inject No process N2 for flammable MNFLD Gas pallet type: TOXIC RP Common gas pallet No MWBC improvement kit Chamber integration lines: RadOx2 RP Pump cable: 81 Feet Base ring: RadOx2 base ring Line 1 / N2 (N/O), 50 SLM Line 2 / O2, 50 SLM Line 3 / O2, 5 SLM Line 6 / H2, 15 SLM - side inject high flow Line 7 / H2, 22 SLM - high flow Line 8 / H2, 2 SLM - low flow Line 10 / N2 (P/P), 30 SLM Restrictor Line 11 / He, 30 SLM Line 12 / N2 (BP), 50 SLM Line 13 / N2 (Maglev), 100 SLM Docking station FST install kit Does not include Hard Disk Drive (HDD) 2013 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Vantage Radiance est un processeur thermique rapide (RTP) utilisé pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il produit des cycles de chauffage et de refroidissement rapides qui sont critiques pour la production commerciale de dispositifs de niveau de plaquette. Le RTP est un système de recuit thermique rapide monobloc qui comprend un grand tube à quartz, un réseau de lampes infrarouges et une optique associée, et une plate-forme réglable pour contrôler l'uniformité du chauffage des lampes de la couche semi-conductrice. Il a une plage de température de processus efficace de 0 ° C à 900 ° C, un temps de processus de 5-60 secondes, et une uniformité de +/-1 ° C sur la surface de la plaquette. AMAT Vantage Radiance utilise un contrôle informatique sophistiqué et une chambre à vide à paroi chaude pour garantir la précision de la température et l'intégrité environnementale. Ses lampes infrarouges offrent une grande intensité et une irradiation spatiale et temporelle uniforme, permettant une excellente uniformité au niveau des plaquettes. Sa conception sous vide à paroi chaude garantit un environnement propre et exempt de contaminants, éliminant le besoin d'atmosphère d'azote ou d'hélium pendant le traitement, offrant ainsi un faible coût de propriété et une grande efficacité. Le RTP est conçu pour fournir des résultats de recuit rapides et répétables avec une répartition uniforme de la température, une excellente homogénéité au niveau des plaquettes et une large gamme de températures de processus. Il est doté d'une technologie avancée de chambre propre, qui offre une meilleure fidélité des processus, répétabilité et performance pour l'optimisation des processus à grande vitesse - y compris une correspondance spectrale de haute précision pour l'optimisation des processus. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Vantage Radiance est également équipé d'un large éventail de systèmes de diagnostic et de contrôle, fournissant des données en temps réel sur la température, le temps de processus et la consommation d'énergie. Il comprend des fonctionnalités telles que le chargement automatisé des échantillons et l'échange de plaquettes, le calendrier des processus et du cycle thermique, et la vérification des processus. De plus, un système de diagnostic unique fournit une rétroaction de processus et peut être consulté à distance de façon sécurisée pour superviser la performance du système et ajuster les paramètres de processus à distance. Vantage Radiance est un RTP compact et robuste conçu pour la production fiable de dispositifs semi-conducteurs de haute performance. Son faible coût de propriété, sa grande précision et sa facilité d'automatisation en font un outil idéal pour la production de dispositifs semi-conducteurs.
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