Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Vantage Radiance #293587172 à vendre en France

ID: 293587172
Rapid Thermal Processing (RTP) system, 12" Process: RadOx (2) Chambers Wafer type: SNNF Platform type: Vantage 3.X Position A and B: (V352) RadOx2 Chamber A and B process: Toxic RP OHT WIP Delivery Dual 2-slot active cool down station No remote control system E99 Docked reading capability Load port: SELOP 7 Load port operator interface: Standard (8) lights Configurable colored lights Top air intake system Upper E84 interface enabled OHT Upper E84 PIO sensors and cables E99 Carrier ID: TIRIS With RF Operator access switch 4-Color configurable light towers Interface A option eDiagnostic Out the back connection type: RP Out the back connection H2 (2) Water cooling chambers RP Integration hardware: Chamber A and B Standard RAGB rear light tower Vantage skin: (2) Toxic chambers IPUP Transfer pump Open loop tuner MFC Type: STEC Core anneal and RTO Monitor 1: Flat panel with keyboard on stand, 17" Monitor 2: Flat panel on stand, 17" Monitor 1 and 2 cables: 25 ft with 16 feet effective SEMI F47 Semi S2 compliance RTP Chamber type: Radiance RadOx2, 12" Technology option: Open loop tuner MFC Type: STEC Core anneal and RTO Rotation type: WRLD Toxic Low flow O2: 5 SLM High flow O2: 50 SLM Oxygen analyzer H2: High flow Low flow Side inject No process N2 for flammable MNFLD Gas pallet type: TOXIC RP Common gas pallet No MWBC improvement kit Chamber integration lines: RadOx2 RP Pump cable: 81 Feet Base ring: RadOx2 base ring Line 1 / N2 (N/O), 50 SLM Line 2 / O2, 50 SLM Line 3 / O2, 5 SLM Line 6 / H2, 15 SLM, Side inject high flow Line 7 / H2, 22 SLM, High flow Line 8 / H2, 2 SLM, Low flow Line 10 / N2 (P/P), 30 SLM Restrictor Line 11 / He, 30 SLM Line 12 / N2 (BP), 50 SLM Line 13 / N2 (Maglev), 100 SLM Docking station FST install kit Does not include Hard Disk Drive (HDD) 2016 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Vantage Radiance est un processeur thermique rapide conçu pour chauffer rapidement et efficacement les plaquettes lors des processus de fabrication des semi-conducteurs. C'est l'un des systèmes de traitement thermique les plus avancés sur le marché, offrant un certain nombre de caractéristiques et d'avantages pour les fabricants de puces. AMAT Vantage Radiance dispose d'un four de traitement thermique rapide de haute puissance qui a été conçu pour transmettre de la chaleur uniforme, avec une plage de température maximale allant jusqu'à 1300 ° C Ceci s'accompagne d'un temps de rampe rapide de moins de 0,1 seconde par étape, ce qui lui permet d'atteindre des valeurs de température rapidement et avec précision. Cela permet de réduire le temps de cycle de la plaquette, permettant aux fabricants de puces de fabriquer des dispositifs semi-conducteurs plus avancés. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Vantage Radiance est également équipé d'un équipement de contrôle avancé, permettant aux opérateurs de gérer et de contrôler les différents processus et conditions nécessaires au traitement thermique. Cela comprend une variété d'outils pour surveiller les conditions telles que la température, la pression, le débit de gaz et les conditions de surface des plaquettes. Ce système permet également d'étalonner les paramètres de cuisson du four pour garantir une performance optimale de chaque lot de plaquettes. De plus, Vantage Radiance utilise une unité de contrôle des processus multiples (MPCS) brevetée, qui peut exécuter des processus simultanés pour plusieurs plaquettes. Cela permet un chauffage rapide et simultané de plusieurs plaquettes, sans compromettre la précision et le contrôle des processus thermiques. Le MPCS dispose également de recettes thermiques pour différentes étapes de processus, pour produire rapidement des résultats cohérents. Globalement, AMAT/APPLIED MATERIALS Vantage Radiance est un processeur thermique rapide avancé conçu pour augmenter l'efficacité et les performances de la fabrication de semi-conducteurs. Avec son four de haute puissance, sa machine de contrôle avancée et son outil de contrôle de processus multiple, AMAT Vantage Radiance est capable de répondre rapidement et avec précision à une variété de besoins de traitement thermique.
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