Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Vantage Radiance #293587176 à vendre en France

ID: 293587176
Rapid Thermal Processing (RTP) system, 12" Process: RadOx (2) Chambers Wafer type: SNNF Platform type: Vantage 3.X Position A and B: (V352) RadOx2 Chamber A and B process: Toxic RP OHT WIP Delivery Dual 2-slot active cool down station No remote control system E99 Docked reading capability Load port: SELOP 7 Load port operator interface: Standard (8) lights Configurable colored lights Top air intake system Upper E84 interface enabled OHT Upper E84 PIO sensors and cables E99 Carrier ID: TIRIS With RF Operator access switch 4-Color configurable light towers Interface A option eDiagnostic Out the back connection type: RP Out the back connection H2 (2) Water cooling chambers RP Integration hardware: Chamber A and B Standard RAGB rear light tower Vantage skin: (2) Toxic chambers IPUP Transfer pump Open loop tuner MFC Type: STEC Core anneal and RTO Monitor 1: Flat panel with keyboard on stand, 17" Monitor 2: Flat panel on stand, 17" Monitor 1 and 2 cables: 25 ft with 16 feet effective SEMI F47 Semi S2 compliance RTP Chamber type: Radiance RadOx2, 12" Technology option: Open loop tuner MFC Type: STEC Core anneal and RTO Rotation type: WRLD Toxic Low flow O2: 5 SLM High flow O2: 50 SLM Oxygen analyzer H2: High flow Low flow Side inject No process N2 for flammable MNFLD Gas pallet type: TOXIC RP Common gas pallet No MWBC improvement kit Chamber integration lines: RadOx2 RP Pump cable: 81 Feet Base ring: RadOx2 base ring Line 1 / N2 (N/O), 50 SLM Line 2 / O2, 50 SLM Line 3 / O2, 5 SLM Line 6 / H2, 15 SLM, Side inject high flow Line 7 / H2, 22 SLM, High flow Line 8 / H2, 2 SLM, Low flow Line 10 / N2 (P/P), 30 SLM Restrictor Line 11 / He, 30 SLM Line 12 / N2 (BP), 50 SLM Line 13 / N2 (Maglev), 100 SLM Docking station FST install kit Does not include Hard Disk Drive (HDD) 2017 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Vantage Radiance est un processeur thermique rapide spécialement conçu pour les applications avancées de fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il s'agit d'un processeur thermique rapide (RTP) à simple tranche, de type lot, qui dispose d'une conception brevetée et fixe à parois en quartz dans le chauffage avec une conception à panneaux plats à convoyage direct très efficace pour un débit maximal. La paroi de la station est composée de quartz et d'autres matériaux ininflammables pour assurer le maintien au froid de la chambre lors d'un traitement thermique rapide. AMAT Vantage Radiance Rapid Thermal Processor utilise plusieurs niveaux de contrôle thermique pour assurer le traitement uniforme du lot de plaquettes. La température est contrôlée par un programme avancé de contrôleur thermique utilisant un hôte pour promouvoir la rétroaction et un contrôleur multi-étages basé sur un tableau de thermocouple de haute précision et un contrôle PID à haut débit. Cet équipement permet à l'appareil de fonctionner sur une large gamme de températures et de pressions, ce qui permet à l'utilisateur d'ajuster les paramètres de traitement au besoin. La vitesse de chauffage du dispositif peut également être régulée par une vitesse de montée en rampe réglable permettant à l'utilisateur de régler le temps de montée en température. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Vantage Radiance Rapid Thermal Processor est conçu avec une uniformité de couverture multizone et complète des plaquettes (MZ-FWCU) qui assure un chauffage homogène sur toute la surface des plaquettes. La zone chauffée du dispositif est divisée en trois régions de traitement pseudo-isothermes (y compris une zone de pré et de post-refroidissement) qui peuvent chauffer la plaquette de la température ambiante à la température de consigne la plus élevée dans une plage acceptable. Le MZ-FWCU assure un chauffage uniforme des plaquettes sans aucun point chaud ou froid. La chambre de Vantage Radiance est conçue pour rester extrêmement propre pendant les temps de traitement. L'unité dispose d'un générateur de plasma breveté qui fournit un environnement de nettoyage stable et cohérent, éliminant efficacement tout débris inter-particules et permettant de minimiser les dommages de surface et matériels. De plus, le dispositif est équipé de fonctions de corrosion et de réduction des particules, d'un mécanisme de préhension et de hauteurs de chauffage réglables pour un entretien rapide et facile. Dans l'ensemble, AMAT/APPLIED MATERIALS Vantage Radiance Rapid Thermal Processeur est une machine de traitement de plaquettes simple avancée et très efficace qui est conçue pour optimiser les rendements des appareils et réduire le temps de débit. Ses capacités et fonctionnalités, y compris le programme de contrôleur thermique avancé, l'outil d'uniformité et le générateur de plasma, en font un choix idéal pour les applications avancées de fabrication de dispositifs semi-conducteurs.
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