Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Vantage Radiance #293587176 à vendre en France
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ID: 293587176
Rapid Thermal Processing (RTP) system, 12"
Process: RadOx
(2) Chambers
Wafer type: SNNF
Platform type: Vantage 3.X
Position A and B: (V352) RadOx2
Chamber A and B process: Toxic RP
OHT WIP Delivery
Dual 2-slot active cool down station
No remote control system
E99 Docked reading capability
Load port: SELOP 7
Load port operator interface: Standard (8) lights
Configurable colored lights
Top air intake system
Upper E84 interface enabled OHT
Upper E84 PIO sensors and cables
E99 Carrier ID: TIRIS With RF
Operator access switch
4-Color configurable light towers
Interface A option
eDiagnostic
Out the back connection type: RP
Out the back connection H2
(2) Water cooling chambers
RP Integration hardware: Chamber A and B
Standard RAGB rear light tower
Vantage skin: (2) Toxic chambers
IPUP Transfer pump
Open loop tuner
MFC Type: STEC
Core anneal and RTO
Monitor 1: Flat panel with keyboard on stand, 17"
Monitor 2: Flat panel on stand, 17"
Monitor 1 and 2 cables: 25 ft with 16 feet effective
SEMI F47
Semi S2 compliance
RTP Chamber type: Radiance RadOx2, 12"
Technology option: Open loop tuner
MFC Type: STEC
Core anneal and RTO
Rotation type: WRLD Toxic
Low flow O2: 5 SLM
High flow O2: 50 SLM
Oxygen analyzer
H2:
High flow
Low flow
Side inject
No process N2 for flammable MNFLD
Gas pallet type: TOXIC RP Common gas pallet
No MWBC improvement kit
Chamber integration lines: RadOx2
RP Pump cable: 81 Feet
Base ring: RadOx2 base ring
Line 1 / N2 (N/O), 50 SLM
Line 2 / O2, 50 SLM
Line 3 / O2, 5 SLM
Line 6 / H2, 15 SLM, Side inject high flow
Line 7 / H2, 22 SLM, High flow
Line 8 / H2, 2 SLM, Low flow
Line 10 / N2 (P/P), 30 SLM Restrictor
Line 11 / He, 30 SLM
Line 12 / N2 (BP), 50 SLM
Line 13 / N2 (Maglev), 100 SLM
Docking station FST install kit
Does not include Hard Disk Drive (HDD)
2017 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Vantage Radiance est un processeur thermique rapide spécialement conçu pour les applications avancées de fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il s'agit d'un processeur thermique rapide (RTP) à simple tranche, de type lot, qui dispose d'une conception brevetée et fixe à parois en quartz dans le chauffage avec une conception à panneaux plats à convoyage direct très efficace pour un débit maximal. La paroi de la station est composée de quartz et d'autres matériaux ininflammables pour assurer le maintien au froid de la chambre lors d'un traitement thermique rapide. AMAT Vantage Radiance Rapid Thermal Processor utilise plusieurs niveaux de contrôle thermique pour assurer le traitement uniforme du lot de plaquettes. La température est contrôlée par un programme avancé de contrôleur thermique utilisant un hôte pour promouvoir la rétroaction et un contrôleur multi-étages basé sur un tableau de thermocouple de haute précision et un contrôle PID à haut débit. Cet équipement permet à l'appareil de fonctionner sur une large gamme de températures et de pressions, ce qui permet à l'utilisateur d'ajuster les paramètres de traitement au besoin. La vitesse de chauffage du dispositif peut également être régulée par une vitesse de montée en rampe réglable permettant à l'utilisateur de régler le temps de montée en température. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Vantage Radiance Rapid Thermal Processor est conçu avec une uniformité de couverture multizone et complète des plaquettes (MZ-FWCU) qui assure un chauffage homogène sur toute la surface des plaquettes. La zone chauffée du dispositif est divisée en trois régions de traitement pseudo-isothermes (y compris une zone de pré et de post-refroidissement) qui peuvent chauffer la plaquette de la température ambiante à la température de consigne la plus élevée dans une plage acceptable. Le MZ-FWCU assure un chauffage uniforme des plaquettes sans aucun point chaud ou froid. La chambre de Vantage Radiance est conçue pour rester extrêmement propre pendant les temps de traitement. L'unité dispose d'un générateur de plasma breveté qui fournit un environnement de nettoyage stable et cohérent, éliminant efficacement tout débris inter-particules et permettant de minimiser les dommages de surface et matériels. De plus, le dispositif est équipé de fonctions de corrosion et de réduction des particules, d'un mécanisme de préhension et de hauteurs de chauffage réglables pour un entretien rapide et facile. Dans l'ensemble, AMAT/APPLIED MATERIALS Vantage Radiance Rapid Thermal Processeur est une machine de traitement de plaquettes simple avancée et très efficace qui est conçue pour optimiser les rendements des appareils et réduire le temps de débit. Ses capacités et fonctionnalités, y compris le programme de contrôleur thermique avancé, l'outil d'uniformité et le générateur de plasma, en font un choix idéal pour les applications avancées de fabrication de dispositifs semi-conducteurs.
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