Occasion APSYSTEM KORONA-1200P #9270852 à vendre en France

APSYSTEM KORONA-1200P est un processeur thermique rapide conçu pour fournir un traitement thermique très précis pour une variété de matériaux et substrats différents. Utilisée principalement dans l'industrie des semi-conducteurs, KORONA-1200P est une solution rentable pour le traitement de nombreux petits substrats. APSYSTEM KORONA-1200P est capable de produire une homogénéité de surface supérieure entre les substrats, avec des points chauds de moins de 2 % d'écart lors du traitement typique. Il utilise une source d'effusion catalytique pour chauffer rapidement les substrats jusqu'à 1 200 degrés Celsius et les refroidir en quelques secondes. Il est conçu pour fonctionner dans un profil de température à chauffage rapide avec une grande précision grâce à l'utilisation d'un système de contrôle thermique breveté. KORONA-1200P a un certain nombre de caractéristiques conçues pour la flexibilité et le contrôle précis. Il dispose de puissance variable pour ajuster le débit thermique, ainsi que le débit de gaz programmable pour fournir des quantités exactes de matériau aux substrats pour une uniformité précise. Cela permet une cohérence de processus sur une large gamme de températures. En outre, le processeur est équipé d'une surveillance absolue de la pression et de la température pour s'assurer que chaque processus se déroule de la même manière. APSYSTEM KORONA-1200P est également équipé de dispositifs de sécurité pour protéger l'utilisateur et l'équipement. Il dispose d'un système de limitation thermique qui empêche la surchauffe et ferme automatiquement le processeur s'il détecte des températures dangereuses. Le processeur comporte également un verrouillage optique qui nécessite l'utilisation de lunettes de sécurité à porter en fonctionnement. KORONA-1200P fournit une solution fiable pour un traitement thermique rapide et est idéal pour un large éventail d'applications. Il est capable de réaliser des surfaces très homogènes avec une excellente répétabilité, tout en ayant la souplesse à ajuster pour différents substrats et procédés. Ceci en fait une solution idéale pour le traitement des semi-conducteurs.