Occasion APSYSTEM KORONA-1200P #9314987 à vendre en France

APSYSTEM KORONA-1200P
ID: 9314987
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2010
System, 12" Process: IMP 2010 vintage.
APSYSTEM KORONA-1200P est un processeur thermique rapide innovant (RTP) dont la température maximale de traitement est de 1200 ° C Cet équipement de haute technologie est conçu pour produire un chauffage efficace et uniforme des plaquettes, des photorésistances et des diélectriques. Avec une uniformité de température supérieure de ± 2 ° C, KORONA-1200P assure un contrôle précis et précis du temps et de la température. Avec une taille de chambre standard de 150 x 150 mm, et la taille optionnelle de grande chambre de 200 x 200 mm, APSYSTEM KORONA-1200P est capable d'accueillir une large gamme de substrats. Il est compatible avec une variété de chimies de gaz fluorocarbonés et peut être programmé pour un fonctionnement automatique. Sa chambre de travail spacieuse et son système de refroidissement convectif efficace le rendent idéal pour le traitement des plaquettes jusqu'à 5 "de diamètre. En outre, KORONA-1200P dispose d'une impressionnante 4 rampes avec jusqu'à 8 segments de réglage de température. Sa capacité à fournir une chaleur rapide et des temps de rafraîchissement garantissent des résultats parfaits rapides et cohérents. Son interface utilisateur intuitive avec une large gamme de paramètres utiles permet facilement à l'utilisateur d'ajuster le profil thermique pour des processus optimisés. APSYSTEM KORONA-1200P dispose également de dispositifs de sécurité avancés pour prévenir la contamination. Un joint métallique intégré à faible fuite isole la chambre de l'environnement, évitant ainsi les polluants environnementaux. Le cœur de cette machine utilise une combinaison de quartz et de plaque de transfert de chaleur pour fournir une uniformité de température supérieure et une uniformité de processus. Globalement, KORONA-1200P est un processeur thermique rapide fiable conçu pour fournir une excellente uniformité de température et un contrôle précis pour le traitement des plaquettes. La combinaison de temps de chauffage/refroidissement rapides, de capacités à haute température et d'interface utilisateur intuitive en font le choix idéal pour les chercheurs travaillant sur les plaquettes semi-conductrices.
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