Occasion KORONA RTP-1200 Plus #9411492 à vendre en France

KORONA® KORONA RTP-1200 Plus est un processeur thermique rapide modulaire à haute performance capable d'effectuer un traitement thermique rapide (RTP) et un recuit thermique rapide (RTA) des plaquettes semi-conductrices. Le processeur dispose d'un four horizontal à vitesse constante, à haute température, à quatre zones, d'un verrou à vide et d'un équipement de refroidissement à air forcé avec deux ensembles de bobines de refroidissement. Le processeur est également capable de dépôt recombinant in situ en temps réel. Le processeur thermique direct à vitesse constante à quatre zones est équipé de chambres thermiques rapides. Les quatre chambres du four sont chauffées avec une alimentation électrique réglable indépendamment, permettant des recettes traditionnelles ou avancées RTP ou RTA. Les quatre zones sont chauffées et refroidies séparément et peuvent être actionnées séquentiellement ou simultanément. Le processeur peut gravir une plaquette en moins de 30 secondes, la refroidir à une température spécifiée par l'utilisateur en 10 secondes et la conserver à une température nettement inférieure. Pour assurer la précision et la répétabilité de RTP-1200 Plus, le système de contrôle basé sur PLC utilise la surveillance et le contrôle de la température du processus. L'unité est conçue pour surveiller et contrôler la température de l'ensemble de la chambre de procédé, y compris les appareils de chauffage supérieurs et inférieurs. La machine de contrôle a également la capacité de surveiller et de contrôler les températures de chaque zone de façon indépendante. L'outil de serrage sous vide aide à maintenir un traitement contrôlé avec précision. Le loadlock du processeur est équipé d'un contrôle de pression cible, qui est capable de maintenir la pression de la chambre à un niveau prédéterminé, de sorte qu'il n'interfère pas avec le traitement thermique de la plaquette semi-conductrice. Le moyen de refroidissement à air forcé assure un transfert thermique efficace de la chambre de procédé vers l'air ambiant, assurant ainsi que la température des plaquettes traitées reste au niveau souhaité. Des ensembles doubles de bobines de refroidissement sont utilisés pour permettre un refroidissement rapide des plaquettes. KORONA RTP-1200 Plus a également la capacité d'effectuer des dépôts recombinants in situ en temps réel. Le processeur utilise un modèle de revêtement spécialement conçu RTP-CVD ou RTP-PECVD, qui est capable de déposer des couches minces uniformes sur une gamme de matériaux semi-conducteurs. KORONA® RTP-1200 Plus processeur thermique rapide peut traiter des plaquettes semi-conductrices dans une large gamme de températures et est capable de réaliser des processus RTP et RTA. Le processeur est équipé d'un équipement de commande très précis, d'une serrure à vide, d'un four horizontal à quatre zones et d'un système de refroidissement à air forcé avec deux ensembles de bobines de refroidissement. Ce processeur est une solution idéale pour toute installation de fabrication de semi-conducteurs qui nécessite un processeur thermique rapide fiable et performant.