Occasion MPTC RTP-600XP #168733 à vendre en France
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ID: 168733
Rapid thermal processor
Specifications:
Gases: GN2, PN2, O2
Substrate: 2" Sapphire wafer
(2) MFC Controlled gas lines
With Pyrometer and type KTC
3Phase, 380V, 60Hz
Includes:
6" OD
(4) 2" Pocked silicon carbide coated graphite susceptor
For processing (4) 2" Sapphire wafer
Quartz tube
4"-6" Wafer tray
Currently crated.
MPTC RTP-600XP est un processeur thermique rapide (RTP) de pointe conçu pour répondre aux exigences rigoureuses des applications industrielles et de recherche avancée. Il a été entièrement optimisé pour une uniformité accrue, une excellente stabilité thermique et un temps d'arrêt de l'outil minimisé. Il a des fonctions polyvalentes uniques qui lui permettent d'être utilisé dans une variété extrême d'applications telles que : dépôt de DRAM, durcissement à haute température, recuit rapide et remplissage de matériau diélectrique. L'appareil dispose d'un équipement de source de plasma direct avancé (DPPS), ce qui le rend plus fiable et efficace que de nombreux autres systèmes de traitement dans le domaine. Ce système permet au processeur thermique rapide d'atteindre des températures allant jusqu'à 800 ° C régulièrement et rapidement, tout en permettant un contrôle précis du plasma et une grande uniformité tout au long du processus. En outre, l'appareil dispose également de plusieurs caractéristiques de sécurité avancées telles que la détection de position, le contrôle du thermocouple, le contrôle du gaz et le contrôle de température de haute précision. RTP-600XP comprend une série de modules, chacun capable d'effectuer une tâche spécifique pour la commodité de personnalisation. La zone thermique permet une action uniforme de chauffage et de refroidissement, tandis que la chambre à vide assure un alignement précis du substrat. De plus, les chambres de gravure humide permettent le nettoyage et la gravure des substrats. L'appareil dispose d'algorithmes avancés et d'affichages qui permettent à l'utilisateur de visualiser et de contrôler facilement son processus. Le positionneur du substrat est réglable et offre de la souplesse en fonctionnement. L'appareil est conçu pour être facilement utilisé et entretenu, avec une construction robuste et un maquillage matériel. MPTC RTP-600XP est le choix idéal pour toute application industrielle ou de recherche avancée. Sa source de plasma direct, sa machine modulaire flexible et sa précision en font l'un des processeurs thermiques les plus fiables et efficaces disponibles sur le marché aujourd'hui. Non seulement il fournit les performances et la précision requises pour un large éventail d'applications, mais il le fait également sous une forme compacte et facilement gérable.
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