Occasion NPS RPH200 #293603755 à vendre en France

NPS RPH200 Rapid Thermal Processor (RTP) est un appareil performant et complet conçu pour optimiser le traitement thermique des matériaux semi-conducteurs. L'équipement est conçu pour fournir un contrôle précis de la température, un chauffage uniforme et des vitesses de rampe rapides, une large plage de température et un contrôle indépendant de chaque étape du traitement thermique. RPH200 est un RTP en deux étapes avec deux éléments chauffants indépendants et est capable d'atteindre des températures allant jusqu'à 500 ° C Le système comprend deux éléments chauffants indépendants contrôlés indépendamment par la température. Les deux éléments chauffants peuvent être programmés indépendamment et sont automatiquement synchronisés pour assurer un chauffage uniforme. La configuration puissante des éléments chauffants permet des vitesses de rampe rapides, des températures uniformes et une uniformité de température améliorée sur l'ensemble de la plaquette. L'unité utilise une machine de contrôle de pression ambiante en circuit fermé, lui permettant d'obtenir un contrôle de pression uniforme et une excellente uniformité de température sur la plaquette. Des plaques froides sont également disponibles pour fournir une source de refroidissement alternative. L'outil est conçu pour être utilisé avec un large éventail d'outils de procédé tels que des systèmes réactifs de gravure d'ions, des systèmes de dépôt de couche atomique, des outils de lithographie, et plus encore. NPS RPH200 a plusieurs fonctionnalités standard qui facilitent le contrôle du processus. Il comprend un moniteur de processus multi-canaux, en temps réel, qui permet d'optimiser le processus et de l'ajuster facilement. Un capteur d'oxygène embarqué (O2) en option est également disponible, qui permet une rétroaction sur la teneur en oxygène de la chambre de réaction, permettant un meilleur contrôle du procédé. RPH200 est un atout RTP fiable et très efficace, capable d'optimiser les processus. Il offre un contrôle précis de la température, une uniformité, des taux de rampe rapides, et a la flexibilité d'être utilisé avec une variété d'outils de processus. Le modèle est conçu pour faciliter l'utilisation et assurer la cohérence des résultats sur plusieurs échantillons.