Occasion STEAG / MATTSON / AST AST 280 #293820847 à vendre en France

STEAG / MATTSON / AST AST 280
ID: 293820847
Style Vintage: 2000
Rapid Thermal Processor (RTP) 2000 vintage.
Introduction : STEAG/MATTSON/AST AST 280 est un outil de traitement thermique rapide de pointe utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs pour le recuit précis de plaquettes de silicium. Cet équipement de pointe combine des technologies innovantes pour fournir des capacités de traitement thermique de haute performance, ce qui en fait un composant essentiel dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Cet aperçu technique complet permettra de découvrir les caractéristiques clés, les principes de travail et les applications du processeur thermique rapide STEAG/MATTSON/AST STEAG 280. Caractéristiques clés : Le processeur thermique rapide STEAG/MATTSON/AST MATTSON 280 est équipé d'une gamme de fonctionnalités avancées qui permettent un traitement thermique rapide et précis des plaquettes de silicium. Une des caractéristiques remarquables de cet équipement est ses capacités à haute température, permettant de traiter des températures allant jusqu'à 1200 ° C Cette large gamme de températures rend AST AST 280 adapté à une variété de procédés thermiques, y compris le recuit, l'oxydation et la diffusion. STEAG AST 280 est conçu pour le traitement à haut débit, avec un système de chauffage et de refroidissement rapide qui assure des temps de cycle rapides. Cette efficacité est obtenue grâce à la technologie avancée de chauffage infrarouge, qui permet une répartition précise et uniforme de la température sur la surface de la plaquette. La capacité de recuit thermique rapide de l'AST 280 permet l'activation de dopants et la réparation de défauts cristallins en une fraction du temps par rapport aux fours classiques. En outre, le STEAG/MATTSON/AST MATTSON AST 280 dispose d'une interface conviviale qui permet une programmation et un contrôle faciles des paramètres de traitement thermique. L'unité est équipée de capacités avancées de surveillance et de contrôle des processus, permettant des réglages en temps réel pour garantir des conditions de traitement optimales et la qualité des plaquettes. De plus, STEAG/MATTSON/AST AST 280 intègre des dispositifs de sécurité avancés pour protéger l'équipement et les opérateurs pendant l'exploitation. Principes de fonctionnement : Le processeur thermique rapide AST AST 280 fonctionne sur le principe du recuit thermique rapide, procédé utilisé pour activer les dopants et réparer les défauts cristallins dans les plaquettes de silicium. La machine utilise le rayonnement infrarouge pour chauffer la plaquette à la température désirée, suivie d'une étape de refroidissement rapide pour stabiliser les propriétés du matériau. Les cycles de chauffage et de refroidissement rapides sont contrôlés avec une grande précision pour obtenir le traitement thermique souhaité. En fonctionnement, la plaquette de silicium est chargée sur un suscepteur de quartz ou de graphite de précision, qui joue le rôle de milieu de transfert thermique. Le suscepteur est ensuite chauffé à l'aide de lampes infrarouges de haute intensité, qui élèvent rapidement la température de la plaquette au point de consigne. La température est surveillée et contrôlée tout au long du processus pour assurer un chauffage uniforme et un traitement thermique précis. Applications : Le processeur thermique rapide STEAG/MATTSON/AST STEAG 280 est utilisé dans une large gamme d'applications de fabrication de semi-conducteurs où un traitement thermique précis est critique. Une des premières applications du STEAG AST 280 est le recuit thermique rapide, qui est utilisé pour activer des dopants implantés dans la plaquette de silicium lors de la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Le recuit thermique rapide est essentiel pour optimiser les performances du dispositif et assurer un fonctionnement fiable. En plus du recuit, l'AST 280 est également utilisé pour d'autres procédés thermiques tels que l'oxydation et la diffusion. Les procédés d'oxydation impliquent la croissance de couches minces d'oxyde à la surface de la plaquette, tandis que les procédés de diffusion impliquent le mouvement contrôlé d'atomes dopants à l'intérieur du cristal de silicium. Ces procédés sont essentiels pour la création de dispositifs semi-conducteurs avancés avec des profils de dopage précis et des propriétés matérielles. Dans l'ensemble, le processeur thermique rapide STEAG/MATTSON/AST MATTSON 280 est un outil polyvalent et performant qui joue un rôle crucial dans la fabrication de semi-conducteurs.Ses caractéristiques avancées, ses capacités de contrôle précises et son fonctionnement efficace en font un atout indispensable pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs de pointe.
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