Occasion STEAG / MATTSON / AST AST 2900 #9266541 à vendre en France

STEAG/MATTSON/AST AST 2900 est un processeur thermique rapide haute performance (RTP) conçu pour le traitement avancé des plaquettes semi-conductrices. Il est capable d'offrir des performances thermiques et de vitesse supérieures dans des applications telles que la croissance épitaxiale, l'activation dopante et le recuit. L'AST 2900 peut fournir une précision et une répétabilité de contrôle de température inégalées afin que le traitement soit hautement fiable et reproductible. Il s'agit d'un équipement monté horizontalement équipé d'une conception unique de chauffe gardée qui assure un chauffage uniforme sur tout le diamètre de la plaquette. STEAG AST2900 est capable de chauffer jusqu'à 5 ° C/seconde, ainsi que de refroidir jusqu'à 30 ° C/seconde tout en conservant une excellente régulation thermique. STEAG 2900 dispose d'un système de distribution de gaz, avec un collecteur d'échange rapide et des régulateurs de débit massique, permettant aux clients d'utiliser une variété de gaz pour divers procédés. Pour assurer la sécurité pendant le fonctionnement, STEAG/MATTSON/AST 2900 dispose d'un interrupteur de défaut au sol et de systèmes de commande de soupape de sécurité en deux étapes avec arrêt automatique. MATTSON AST2900 est également équipé d'une unité de contrôle informatique de pointe qui permet aux utilisateurs de personnaliser les profils de température et les consignes, ainsi que de surveiller la machine et de vérifier les conditions de fonctionnement. AST AST 2900 est un processeur thermique rapide avancé qui offre une excellente précision de température et répétabilité. Il est doté de vitesses de chauffage et de refroidissement rapides, d'un débit de gaz précis et d'un outil de sécurité robuste. Grâce à son outil de contrôle informatique, les utilisateurs ont la flexibilité de personnaliser les paramètres pour s'adapter aux processus avancés. MATTSON AST 2900 est un choix idéal pour le traitement des semi-conducteurs et des applications avancées telles que la croissance épitaxiale, l'activation dopante et le recuit.