Occasion AGS MPS-450-RIE #9379089 à vendre en France

AGS MPS-450-RIE
Fabricant
AGS
Modèle
MPS-450-RIE
ID: 9379089
Advanced plasma system MPS-450 Base module: Console Chamber SYS-RIE Power distribution RIO Interlocks RIO/RS232 Harness CLP08 APC2014-PPLC Controller Configuration options for RIE: Electrode RF300w Plasma source Vacuum: 100 mm, 1CG Pressure control, 1T Gas deck: 5 Channels dry pump: 8cfm-plasma Mass flow controller options: MFC Standard (CF4/O2) MFC Toxic Toxic gaspod: 6 Channels Miscellaneous options: Plasma source: RF600w Plasma source: RF1000w Dry pump: 60cfm-Plasma Turbo package: 240lps-Plasma Turbo package: 650lps-Plasma Turbo package: 500lps-MagLev Option: Assy, ion gauge KF Temperature controller: 10-30C Heater jacket: Wall Plate quartz cover: 450 mm.
AGS MPS-450-RIE (Reactive Ion Etcher) est un appareil de gravure avancé utilisant un procédé de gravure par plasma à couplage inductif (ICP) dans lequel du gaz inerte est utilisé, et un procédé de résonance cyclotron électronique (ECR), où des micro-ondes sont utilisées. Ce réacteur est conçu pour une grande variété d'applications de gravure telles que la gravure de vias traversants en silicium (TSV), MEMS et dispositifs 3D-IC. Il a un contrôle de processus efficace et précis, qui maximise le rendement de production et réduit le coût. Le système est capable de déposer des espèces de gravure positives et négatives sur la surface du substrat en contrôlant la puissance RF, les flux de gaz et les pressions de la chambre. Ce procédé assure une profondeur de gravure uniforme et une excellente sélectivité sur la gamme de matériaux. L'intérieur de la chambre est construit à l'aide d'une chambre en acier inoxydable avancée pour le fonctionnement à haute température. La chambre est également équipée d'un système de mesure thermique in situ et d'un système de cryo-refroidissement qui permet un contrôle précis de la température du substrat, donnant une qualité de surface optimale et un contrôle précis du processus. MPS-450-RIE est équipé d'un générateur multifréquence RF qui fournit diverses capacités pour contrôler la vitesse de gravure et la sélectivité en modulant la puissance RF. Ordinateur puissant embarqué fournit une plate-forme de contrôle interactive capable de détecter et de prévenir le fonctionnement erroné. Il stocke et affiche également toutes les données statistiques pour une analyse plus approfondie. Cet etcher dispose d'une conception orientée processus pour la détection in situ du point final et le mécanisme de chargement automatisé de détection de plaquettes qui réduit considérablement les défauts de processus et améliore les performances globales de gravure. Il dispose d'un plateau de chargement à changement rapide pour le chargement de deux bateaux en plaquettes en une seule étape. Il permet également un fonctionnement à distance via des connexions Ethernet et/ou série qui aident à répondre aux exigences de l'évolution rapide des environnements de production. AGS MPS-450-RIE convient à divers procédés de production nécessitant une gravure de haute qualité avec un débit élevé. Sa fiabilité, son efficacité et sa durabilité en font un choix idéal pour les applications industrielles.
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