Occasion AIXTRON 2000 HT #9093575 à vendre en France

Fabricant
AIXTRON
Modèle
2000 HT
ID: 9093575
Style Vintage: 2005
MOCVD System Nitride (GaN) Controller Planetary reactor Gas foil rotation RF Cooling wafers Glove box PC Controller: DELL Poweredge 1750 Reactor temperature gauge: EUROTHERM Reactor pressure gauge: MKS 600 Controller Pressure balancing gauge: EUROTHERM Temperature control system: LUXTRON 100C Optical fiber Main system With (8) PLC systems HUTTINGER Generator UN2000 A WHG Scrubber AFFINITY ED17 CAM 2P Pump cabinet BUSCH Dry pump (2) Scroll pumps Gases: N2, H2, SiH4, HCL and NH3 MO Baths LUDA-S RM6 (4) NESLAB RTE-111 Gas box with Amonia, N2, N2 Purifier MO: TMGa, TMAI, TEGa, TMin Chiller missing 2005 vintage.
AIXTRON 2000 HT est un équipement de réacteur chimique conçu pour des procédés de dépôt à haute température tels que le MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition). Ce système à haut débit est équipé d'une chambre de réaction avec six pulvérisateurs diagonaux à plaques planes et une unité de positionnement robotique intégrée. La chambre de réaction est contrôlée en température par une machine de chauffage à paroi chaude et la température du substrat peut être régulée par une injection de gaz d'appoint. L'outil comporte un grand nombre d'entrées et de sorties pour assurer un mélange continu des gaz lors du dépôt et une robustesse contre d'éventuelles variations de pression. 2000 HT est capable de fonctionner dans la gamme de températures allant jusqu'à 1000 ° C AIXTRON 2000 HT utilise également un viseur quartz de 6 pouces qui permet de visualiser le processus de dépôt depuis la chambre de réaction. Il peut être utilisé pour contrôler et optimiser les paramètres du processus tels que le débit de gaz, la température, la pression, etc. au moyen d'un outil de contrôle sophistiqué. Ses capacités de programmation à distance assurent également un contrôle précis du processus. Le modèle de gravure sèche intégrée facilite encore le contrôle in situ de l'épaisseur du film. 2000 HT est conçu pour accélérer le processus de dépôt des matériaux avec un débit élevé et un budget thermique le plus bas possible. Il convient à la fois aux dépôts monocouches et multicouches. L'équipement est capable de produire des couches minces de haute qualité de formes 3D complexes avec un contrôle précis des couches. Grâce à l'utilisation de techniques de dépôt à haute température, AIXTRON 2000 HT offre une solution de fabrication économique pour la fabrication de dispositifs membranaires et semi-conducteurs, tels que GaAs ou LED à base de GaN et diodes laser. Le système peut être utilisé pour la production par lots et en continu et permet une facilité de fonctionnement et de maintenance.
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