Occasion AIXTRON 2000 #9222202 à vendre en France

AIXTRON 2000 est un réacteur multi-chambres, rectangulaire, à basse pression, à dépôt chimique en phase vapeur métallique (MOCVD) conçu pour des applications de dépôt en couches minces. Ce réacteur permet aux chercheurs et aux ingénieurs de déposer avec précision des couches semi-conductrices composées sur différents substrats. 2000 dispose de trois chambres individuelles ; une chambre d'accueil, une chambre d'échappement et une chambre à gaz inerte. La chambre d'accueil contient le matériau du substrat et permet de décomposer le matériau précurseur entrant et de l'atomiser sur le substrat. La chambre d'échappement est utilisée pour évacuer les produits de réaction de la chambre de procédé, tandis que la chambre de gaz inerte empêche la contamination de l'environnement. AIXTRON 2000 utilise des lampes à hydrure montées verticalement pour fournir l'énergie nécessaire au processus de dépôt chimique en phase vapeur. Les lampes fournissent une énergie ultraviolette (UV) de l'ordre de 250-400 nm, ce qui décompose le matériau précurseur entrant et permet la réaction chimique nécessaire pour le dépôt en couches minces. Le contrôle de précision du procédé des réacteurs est obtenu avec une plage de température réglable de 350-420 ° C Le débit des gaz de procédé est réglé avec précision avec un contrôle de pression de 1 à 105 mbar et un contrôle réglable de la vanne de gaz. Les dispositifs de sécurité intégrés des années 2000 offrent une protection contre les perturbations du processus, la surpression et la surchauffe. La polyvalence d'AIXTRON 2000 est la clé de son succès dans le domaine. Par exemple, 2000 est efficace pour le dépôt, la gravure et le nettoyage d'une grande variété de couches semi-conductrices composées. Il convient également pour le dépôt de diodes, transistors à couches minces, LED, barrières Schottky, et autres dispositifs semi-conducteurs composés. AIXTRON 2000 offre une option respectueuse de l'environnement avec une production minimale de déchets, une faible émission de matières volatiles et aucune matière dangereuse à l'exception du gaz précurseur. De plus, sa conception robuste et son entretien peu nécessaire permettent à 2000 de fonctionner de façon fiable pendant de longues périodes. En conclusion, AIXTRON 2000 est un réacteur MOCVD unique qui allie robustesse et contrôle précis des procédés pour donner aux scientifiques et aux ingénieurs la capacité de déposer une large gamme de couches minces avec précision et fiabilité. Ses paramètres de fonctionnement polyvalents, son caractère respectueux de l'environnement et son faible entretien en font un choix idéal pour le dépôt industriel de semi-conducteurs composés.