Occasion AIXTRON 2400 G2 #9018984 à vendre en France

Fabricant
AIXTRON
Modèle
2400 G2
ID: 9018984
GaAr/InP Planetary reactor systems Set up to run Red LED's Configured for 8x3"(15x2") wafers Source configuration: TMGa-1, TMGa-2, TMAl-1, TMAl-2, TMIn-1, TMIn-2,Cp2Mg-1 Currently deinstalled 1998 vintage.
AIXTRON 2400 G2 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour la production de graphène, de matériaux semi-conducteurs et d'autres nanomatériaux. Il s'agit d'un réacteur monobloc fonctionnant à des températures allant de 800 ° C à 1300 ° C 2400 G2 se compose d'une chambre principale, qui est chauffée jusqu'à une température choisie. Cette chambre est fermée par une cuve à vide qui est reliée à une pompe à vide. La chambre est constituée de deux sources de gaz réactif qui sont pompées dans la chambre avec les réactifs et leurs précurseurs. A l'intérieur de la chambre, les réactifs réagiront avec le substrat (matériau à revêtir) dans les conditions de température et de pression contrôlées. AIXTRON 2400 G2 est équipé d'un équipement d'alimentation électrique et dispose d'un système intégré de dépôt de plasma pulsé (PPDS), où le matériau est encouragé à croître avec l'énergie du plasma. Cela permet d'obtenir un dépôt uniforme du matériau. De plus, l'unité a la capacité de contrôler les vitesses de dépôt des gaz réactifs pour différents types de matériaux. La chambre est entièrement automatisée, avec des capteurs de température et de pression qui surveillent et maintiennent les températures du gaz et du substrat, la pression à l'intérieur de la chambre et le volume de gaz utilisé pour le processus de dépôt. La machine est également conçue avec des dispositifs de sécurité, tels que des mécanismes d'arrêt automatisés et une protection contre la surpression, pour s'assurer qu'aucun événement dangereux ne peut se produire pendant le dépôt. Enfin, 2400 G2 est équipé d'un outil de contrôle efficace, qui utilise des algorithmes dédiés et des interfaces utilisateur graphiques. Il dispose d'une capacité intégrée d'enregistrement des données et peut être exploité avec différents niveaux d'automatisation. De plus, l'actif comprend des outils d'analyse logicielle tels que la spectroscopie optique d'émission (OES) pour analyser le matériau déposé. Cela permet d'obtenir des résultats précis et reproductibles pour l'utilisateur.
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