Occasion AIXTRON 2400 G2 #9191574 à vendre en France
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Vendu
ID: 9191574
Reactor
InGaAsP
Wafer capacity:
Heat package not included
Wafer configuration: 15x2", 11 x 2", 8x3", 5x4"
Gas supply:
N2 6.0, H2 Pd-Diffused, AsH3 100%
PH3 100%, SiH4 100%
Pinlet each 3-3, 5 bars
Carrier gas consumption < 20 l/min
Forming gas: 5%-10% H2 in N2
Pneumatic: N2 Techn, 7-9 bars
Cabinet ventilation: 2 x 1000 m3/h
Water cooling: Total flow 4 l/min at Tinlet, < 25°C
Pinlet, < 6 bars
Differential pressure > 4 bars
Power supply:
3Ph, 60Hz, 480VAC, ±5%-60 kVA (Heater)
3N/Ph, 60 Hz, 208VAC, ±5%-20 kVA (Electronics) (or)
3N/Ph, 50Hz, 400AC, ±5%-80 kVA.
AIXTRON AIX 2400 G2 est un réacteur haute performance conçu pour la production de gisements de grand volume et de haute qualité. Il est basé sur la technologie de production brevetée CVD-MOCVD de l'entreprise et peut gérer toute la gamme de procédés de dépôt pour les matériaux oxydes, nitrures et semi-conducteurs composés. Le réacteur se compose d'un suscepteur rotatif, de deux systèmes de chauffage par zone thermique et de capacités sophistiquées de contrôle des processus. Le suscepteur rotatif est un disque flottant libre de grand diamètre qui est monté sur un cadre de style échelle et peut tourner jusqu'à 400 tours par minute. Cette conception offre un dépôt uniforme et cohérent de couches minces et une productivité accrue, car elle permet de multiples opérations. Les deux zones thermiques sont constituées d'un suscepteur de graphite, enveloppé d'un élément chauffant résistif pour la zone de dépôt et d'un réchauffeur résistif pour assurer le recuit à haute température. Les deux zones thermiques sont réglables et peuvent être adaptées aux paramètres de dépôt spécifiques. Les capacités sophistiquées de contrôle des processus permettent un réglage précis et fiable des processus, garantissant des films de haute qualité avec une excellente uniformité et répétabilité. De plus, le réacteur est équipé de systèmes de contrôle précis des gaz utilisant un ensemble complet de sources de gaz de procédé, de soupapes et de débitmètres pour le contrôle en boucle fermée des flux de réactifs. Il en résulte un traitement à haut débit d'une grande variété de matériaux. AIX 2400 G2 est un outil idéal pour ceux qui nécessitent une productivité maximale et des films de haute qualité des procédés de dépôt et de recuit. Sa conception compacte permet une intégration facile dans un environnement de production et combine les avantages d'une haute stabilité thermique, un contrôle précis des gaz et un contrôle fiable des processus. En tant que tel, il offre des performances supérieures dans la réalisation de films minces pour diverses applications telles que les dispositifs optoélectroniques et microélectroniques, les afficheurs et autres dispositifs semi-conducteurs.
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