Occasion AIXTRON 2600 G3 #9031068 à vendre en France

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Fabricant
AIXTRON
Modèle
2600 G3
ID: 9031068
MOCVD system 2001 vintage.
AIXTRON AIX 2600 G3 est un réacteur source de plasma à distance. Cette solution de pointe pour la production de semi-conducteurs et de microélectroniques est conçue pour assurer un traitement de haute précision de divers matériaux tels que le silicium, le germanium, l'arséniure de gallium et d'autres substrats III-V. Il présente une technologie brevetée de dépôt C2 qui permet le dépôt de composés sur un substrat dans un environnement froid. AIXTRON AIX 2600G3 comprend de nombreux composants : une chambre à vide, un équipement de gaz de procédé, une pompe moléculaire turbo, un condensateur et un générateur d'énergie RF. Elle est en acier inoxydable et certifiée ISO 5 pour sa propreté. Le système de traitement des gaz est contrôlé par des régulateurs de débit à double masse disponibles pour le dépôt de matières provenant de sources alternatives ou d'un seul gaz. La pompe turbo moléculaire assure que la pression de la chambre reste comprise entre 1 x 10-6 et 2 x 10-5 mbar. Le condensateur est la composante la plus importante de l'AIX 2600 G3 ; il stocke de l'énergie qui est ensuite libérée dans la source du réacteur de manière régulée, ce qui permet aux ingénieurs de contrôler de manière précise la croissance des couches minces. Enfin, le générateur d'énergie RF est chargé de produire de l'énergie haute fréquence sinusoïdale. Tous ces composants permettent un contrôle précis des procédés de dépôt, assurant l'épaisseur, l'homogénéité, la stoechiométrie et la pureté souhaitées du film. AIX 2600G3 a également un débit élevé allant jusqu'à 12 plates-formes de plaquettes par heure, ce qui en fait un outil de production rentable et fiable. De plus, l'unité dispose d'une machine de mesure intégrée qui facilite le contrôle des processus. En conclusion, AIXTRON AIX 2600 G3 est un réacteur à source de plasma à distance de pointe conçu pour faciliter le dépôt d'une variété de matériaux pour la fabrication de semi-conducteurs et de microélectroniques. Ses composants de pointe, tels que ses régulateurs de débit à double masse, la pompe moléculaire turbo, le condensateur et le générateur d'énergie RF, permettent un contrôle précis du processus pour obtenir les résultats souhaités. De plus, son haut débit et son outil de mesure intégré en font un outil de production efficace et fiable.
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