Occasion AIXTRON 2600 G3 #9299680 à vendre en France

AIXTRON 2600 G3 est un réacteur de pointe pour le dépôt de couches minces utilisé dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs et de LED. Il offre une gamme de fonctionnalités innovantes, permettant la production de films de grande surface avec des propriétés supérieures. AIXTRON 2600G3 est capable de conduire une grande variété de techniques de dépôt, y compris le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et le CVD assisté par plasma (PECVD). Il peut accueillir jusqu'à 3 réacteurs, ce qui le rend adapté aux processus multi-réacteurs. Le système dispose également d'une large gamme de longueurs d'onde et d'un contrôle précis de la longueur d'onde pour les dépôts avancés de nanostructures. Le réacteur est livré avec une variété d'entrées de gaz, permettant des flux de gaz de procédé sur mesure pour la meilleure croissance du film. Les trois réacteurs sont équipés de zones de chauffage individuelles pour un chauffage précis du substrat. Le système propose également des algorithmes de réglage automatique de pointe basés sur une méthode PID modernisée et propriétaire d'AIXTRON pour améliorer la précision et la répétabilité. La chambre de 2600 G3 est en acier inoxydable très durable pour assurer la fiabilité et la propreté. Tous les systèmes sont étanches à la pression pour une performance sans fuite supérieure et tous les composants sont résistants à la température, permettant un fonctionnement à long terme et stable. La chambre est également conçue pour être facile d'accès et d'entretien avec une porte d'accès centrale et un port de nettoyage intégré. 2600G3 est l'un des outils de dépôt en couches minces les plus évolués et les plus polyvalents. Il fournit un large éventail de techniques de dépôt avec des conditions de processus optimales grâce à sa conception flexible et ses caractéristiques de pointe. Il est idéal pour une variété de substrats et d'applications dans la fabrication de semi-conducteurs.