Occasion AIXTRON 2600 G3 #9375669 à vendre en France

AIXTRON 2600 G3 est un type de réacteur avancé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) d'AIXTRON utilisé pour la culture de matériaux comme le graphène et d'autres couches minces. Le réacteur fournit aux utilisateurs un procédé très efficace et précis pour le contrôle exact de l'épaisseur de la couche. Il est équipé d'une grande chambre à quartz et d'une capacité de chauffage supérieure, ainsi que d'un certain nombre de caractéristiques conçues pour réduire les coûts et améliorer la qualité des procédés. AIXTRON 2600G3 utilise le système AIXTRON advanced diffusion deep-temperature uniformity (DTU) pour un contrôle précis de l'épaisseur des couches. Ce système surveille la température et le mélange sur l'ensemble du substrat, ce qui permet de s'assurer que les films sont cultivés uniformément et à l'épaisseur désirée. En outre, il dispose d'un système à faible taux de croissance qui assure en outre des couches uniformes et une meilleure stabilité lors du dépôt. Le réacteur présente une large gamme de tailles et de formes possibles de substrat, ce qui signifie que des films peuvent être cultivés sur pratiquement n'importe quel substrat. Il dispose également d'une chambre à quartz spacieuse, permettant de plus grandes tailles de substrat et une surface de couverture accrue. En outre, 2600 G3 dispose d'une technologie de chauffage rapide, avec des parois chaudes et des parois froides. Cela aide à réduire le temps de traitement global et améliore les rendements de production car la chaleur est transférée plus rapidement sur le substrat. En termes de sécurité, 2600G3 a un processus entièrement automatisé qui limite le contact manuel avec les matériaux pendant le traitement. Il a une structure fermée qui contribue à assurer un fonctionnement sûr tout en protégeant l'environnement de la chambre. Le réacteur peut être équipé d'une gamme de capteurs, y compris des capteurs d'oxygène, de pression, de température et de débit qui surveillent l'environnement et alertent les utilisateurs en cas de risques de sécurité. Dans l'ensemble, AIXTRON 2600 G3 est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur fiable et précis avec une uniformité à haute température et une large gamme de tailles et de formes possibles de substrat. Son processus automatisé et ses fonctions de sécurité étendues font d'AIXTRON 2600G3 un excellent outil de production de films minces et de dépôts uniformes.