Occasion AIXTRON 2600G3 HT #9395958 à vendre en France

AIXTRON 2600G3 HT est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à haut débit conçu pour le dépôt à haut débit de matériaux à couches minces. Cet équipement est basé sur la configuration modulaire monobloc et peut traiter jusqu'à 16 plaquettes simultanément, ce qui le rend idéal pour des applications de production à grande échelle. AIXTRON 2600 G3 HT est équipé d'une variété de fonctionnalités automatisées pour faciliter le fonctionnement. Un système de mélange de gaz à haut débit permet un ajustement rapide de la vitesse de dépôt et de la composition du film déposé. L'unité a également une conception de suscepteur interchangeable, lui permettant de passer rapidement entre différentes tailles de plaquettes et matériaux de substrat. Sa conception compacte et légère le rend bien adapté aux applications de laboratoire ou de production. Le procédé de dépôt est par rapport de gaz réactif directionnel avec une option de vitesse de dépôt élevée, permettant d'améliorer la vitesse de débit. En particulier, un zonage efficace sur le site du réacteur permet de contrôler le procédé de dépôt de films avec des propriétés déterminées. Grâce à la vitesse de chauffage rapide de 2600G3 HT, il est possible d'obtenir une excellente uniformité de température sur la plaquette, le substrat et le porte-substrat. La conductivité thermique élevée du suscepteur permet d'améliorer l'homogénéité de température du film, et le suscepteur peut être rapidement remplacé si nécessaire, réduisant les temps d'arrêt. La gamme de températures 2600 G3 HT va de la température ambiante à 700 ° C, ce qui lui permet de déposer un large éventail de matériaux, tels que diélectriques, métaux, oxydes et alliages. La capacité à haute température d'AIXTRON 2600G3 HT le rend adapté pour le dépôt de films à semi-conducteur d'oxyde métallique (MOS), tels que les oxydes de tungstène et les silicures. AIXTRON 2600 G3 HT est également équipé d'un certain nombre de fonctions d'automatisation, y compris un contrôleur programmable, une surveillance intégrée à temps plein du débit de gaz, et un outil programmable d'interception de sécurité. En outre, 2600G3 HT est conçu pour fonctionner sous gaz inerte, fournissant un environnement propre pour le dépôt précis de films de haute qualité. En résumé, 2600 G3 HT est un outil idéal pour le dépôt de matériaux en couches minces dans les environnements de recherche et de production. Son processus de dépôt efficace et ses fonctionnalités automatisées améliorent les vitesses de débit avec une excellente uniformité de température et des films de haute qualité. Pour assurer un fonctionnement sûr et réussi, AIXTRON 2600G3 HT est équipé d'un certain nombre de caractéristiques de sécurité et est conçu pour fonctionner dans un environnement inerte.