Occasion AIXTRON 2600G3 IC #9188592 à vendre en France

AIXTRON 2600G3 IC est un outil de dépôt avancé d'AIXTRON qui est utilisé pour déposer des matériaux en couches minces de haute qualité sur des substrats. L'outil est constitué d'une chambre à vide, d'une chambre de réaction et d'une chambre source. Sa conception comprend un réseau multifils breveté et un équipement d'injection de gaz qui offrent une uniformité et une flexibilité inégalées. Le composant principal de l'outil est la chambre à vide, qui est utilisé pour créer un vide de 10-7 Torr. La pression de base de la chambre est inférieure à 10-9 Torr. La chambre est équipée d'une fenêtre de réglage et d'un bouclier de sécurité. Ceci est utilisé pour assurer la sécurité de fonctionnement de la chambre dans différentes plages de pression et de température. La chambre de réaction de 2600G3 IC est une chambre de réacteur verticale avec une fenêtre en quartz de 6 « de largeur sur 24 » de hauteur. Il est capable d'atteindre des températures allant jusqu'à 2000 ° C et est supporté par des contrôleurs de mouvement de haute précision pour un positionnement précis des substrats pendant le traitement. Ceci est également facilité par le système intégré de protection miroir-injection, qui assure un contrôle de mouvement extrêmement précis pour les substrats. La chambre comporte également une unité spéciale d'injection de gaz qui assure une injection uniforme et régulière de gaz pour améliorer la qualité du film déposé. La chambre source d'AIXTRON 2600G3 IC est celle où les matériaux sont initialement préparés pour le dépôt. Cette chambre a une plage de température de -50 ° C à 1000 ° C, qui peut être contrôlée et surveillée par le logiciel avancé de l'outil. La chambre est également équipée d'une machine à grille multi-ondes spécialement conçue pour assurer une croissance de film reproductible de haute qualité. Dans l'ensemble, 2600G3 IC est un outil de dépôt très avancé qui offre une uniformité de film inégalée, la flexibilité, et des films de haute qualité. C'est un choix idéal pour une grande variété d'applications de dépôt en couches minces, y compris le dépôt d'oxydes, de métaux et d'autres matériaux en couches minces.